HFCVD0606

Ruang salutan vakum peralatan pemendapan wap kimia menggunakan struktur penyejukan air dua lapisan bebas, yang cekap dan seragam dalam penyejukan, dan mempunyai struktur yang selamat dan stabil. Peralatan ini direka bentuk dengan pintu berganda, berbilang tingkap pemerhatian dan berbilang antara muka pengembangan, yang mudah untuk sambungan luaran periferal tambahan seperti pengukuran suhu inframerah, analisis spektrum, pemantauan video dan termogandingan. Konsep reka bentuk canggih menjadikan baik pulih dan penyelenggaraan harian, perubahan konfigurasi dan naik taraf peralatan mudah dan ringkas, dan berkesan mengurangkan kos penggunaan dan naik taraf.

Ciri-ciri peralatan:

1. Komponen inflasi peralatan terutamanya termasuk meter aliran jisim, injap solenoid dan tangki pencampuran gas, yang memastikan kawalan aliran gas proses yang tepat, pencampuran seragam dan pengasingan gas yang berbeza yang selamat, dan boleh memilih komponen sistem gas untuk penggunaan sumber gas cecair, memudahkan pemilihan peribadi pelbagai sumber karbon cecair, dan penggunaan sumber boron cecair dan berlian konduktif sintetik yang selamat.
2. Perhimpunan pengekstrakan udara dilengkapi dengan pam vakum bilah berputar yang senyap dan cekap serta sistem pam molekul turbo yang dapat memenuhi persekitaran latar belakang vakum tinggi dengan cepat. Tolok vakum komposit dengan tolok rintangan dan tolok pengionan digunakan untuk pengukuran vakum, serta sistem tolok filem kapasitif yang dapat mengukur tekanan gas proses yang berbeza dalam julat yang luas. Tekanan pemendapan dikawal sepenuhnya secara automatik oleh injap kawalan berkadar ketepatan tinggi.
3. Komponen air penyejuk dilengkapi dengan tekanan air berbilang saluran, pengukuran aliran, suhu dan pemantauan automatik perisian. Komponen penyejukan yang berbeza adalah bebas antara satu sama lain, yang memudahkan diagnosis kerosakan yang cepat. Semua cabang mempunyai suis injap bebas, yang selamat dan cekap.
4. Komponen kawalan elektrik menggunakan skrin LCD antara muka manusia-mesin bersaiz besar dan bekerjasama dengan kawalan automatik penuh PLC untuk memudahkan penyuntingan dan import formula proses. Lengkung grafik memaparkan secara visual perubahan dan nilai pelbagai parameter, dan parameter peralatan dan proses direkodkan dan diarkibkan secara automatik untuk memudahkan pengesanan masalah dan analisis statistik data.
5. Rak bahan kerja dilengkapi dengan motor servo untuk mengawal pengangkatan dan penurunan meja substrat. Meja substrat grafit atau kuprum merah boleh dipilih. Suhu diukur dengan termogandingan.
6. Komponen rak boleh direka bentuk secara keseluruhan atau berasingan mengikut keperluan pelanggan untuk memenuhi keperluan pengendalian khas pelanggan.
7. Komponen plat pengedap cantik dan elegan. Plat pengedap di kawasan modul berfungsi yang berbeza pada peralatan boleh ditanggalkan dengan cepat atau dibuka dan ditutup secara berasingan, yang sangat mudah digunakan.

Peralatan CVD filamen panas sesuai untuk memendapkan bahan berlian, termasuk salutan filem nipis, filem tebal sokongan sendiri, berlian mikrokristalin dan nanokristalin, berlian konduktif, dan sebagainya. Ia digunakan terutamanya untuk salutan pelindung tahan haus alat pemotong karbida simen, bahan semikonduktor seperti silikon dan silikon karbida, salutan pelesapan haba peranti, elektrod berlian konduktif dop boron, pembasmian kuman ozon air elektrolitik atau rawatan kumbahan.