ZHCVD1200

Die Ausrüstung verwendet hauptsächlich die chemische Gasphasenabscheidung zur Herstellung eines Oxidfilms, der sich durch eine schnelle Abscheidungsrate und eine hohe Filmqualität auszeichnet.Was die Gerätestruktur betrifft, so wird die Doppeltürstruktur zur Verbesserung der Spanneffizienz verwendet, und das neueste Flüssiggasversorgungssystem wird eingesetzt, um einen stabilen und kontrollierbaren Fluss zu gewährleisten und die Prozessstabilität effektiv sicherzustellen.Der mit der Anlage hergestellte Film weist eine gute Wasserdampfbarriere und eine längere Stabilitätsdauer im Kochtest auf.
Die Ausrüstung kann auf Edelstahl, galvanisierte Hardware/Kunststoffteile, Glas, Keramik und andere Materialien wie elektronische Produkte, LED-Lichtperlen, medizinische Hilfsmittel und andere Produkte angewendet werden, die Oxidationsbeständigkeit erfordern.SiOx-Barrierefolien werden hauptsächlich hergestellt, um Wasserdampf effektiv zu blockieren, Korrosion und Oxidation zu verhindern und die Produktlebensdauer zu verbessern.