ZHCVD1200

Die Anlage nutzt hauptsächlich chemische Gasphasenabscheidung (CVD) zur Herstellung von Oxidschichten und zeichnet sich durch hohe Abscheidungsraten und Schichtqualität aus. Die Doppeltürkonstruktion der Anlage verbessert die Klemmwirkung, und ein modernes Flüssiggasversorgungssystem gewährleistet einen stabilen und kontrollierbaren Durchfluss sowie eine hohe Prozessstabilität. Die mit der Anlage hergestellten Schichten weisen eine gute Wasserdampfbarriere und eine lange Stabilität im Siedetest auf.
Das Verfahren eignet sich für Edelstahl, galvanisierte Metall- und Kunststoffteile, Glas, Keramik und andere Materialien wie Elektronikprodukte, LED-Leuchtmittel, medizinische Geräte und weitere Produkte, die Oxidationsbeständigkeit erfordern. Die SiOx-Sperrschicht dient hauptsächlich dazu, Wasserdampf effektiv abzuhalten, Korrosion und Oxidation zu verhindern und die Produktlebensdauer zu verlängern.