HFCVD0606

Die Vakuumbeschichtungskammer der Anlage zur chemischen Gasphasenabscheidung verfügt über eine unabhängige, doppelschichtige Wasserkühlung, die eine effiziente und gleichmäßige Kühlung gewährleistet und gleichzeitig sicher und stabil ist. Die Anlage ist mit Doppeltüren, mehreren Sichtfenstern und mehreren Erweiterungsschnittstellen ausgestattet, was den externen Anschluss zusätzlicher Peripheriegeräte wie Infrarot-Temperaturmessung, Spektralanalyse, Videoüberwachung und Thermoelement ermöglicht. Das fortschrittliche Designkonzept vereinfacht die tägliche Überholung und Wartung, Konfigurationsänderungen und Upgrades der Anlage und reduziert effektiv die Nutzungs- und Upgradekosten.

Ausstattungsmerkmale:

1. Zu den Aufblaskomponenten der Ausrüstung gehören hauptsächlich ein Massendurchflussmesser, ein Magnetventil und ein Gasmischbehälter, die eine genaue Steuerung des Prozessgasflusses, eine gleichmäßige Mischung und eine sichere Isolierung verschiedener Gase gewährleisten. Außerdem können Gassystemkomponenten für die Verwendung von Flüssiggasquellen ausgewählt werden, was die personalisierte Auswahl einer breiten Palette von Flüssigkohlenstoffquellen und die sichere Verwendung von synthetischen leitfähigen Diamanten und Elektroden-Flüssigborquellen erleichtert.
2. Die Luftabsaugeinheit ist mit einer leisen und effizienten Drehschieber-Vakuumpumpe und einem Turbomolekularpumpensystem ausgestattet, das die Anforderungen an die Hochvakuumumgebung schnell erfüllt. Zur Vakuummessung wird ein Verbundvakuummeter mit Widerstands- und Ionisationsmanometer sowie ein kapazitives Filmmanometersystem verwendet, das den Druck verschiedener Prozessgase in einem weiten Bereich messen kann. Der Abscheidedruck wird vollautomatisch durch ein hochpräzises Proportionalregelventil geregelt.
3. Die Kühlwasserkomponente ist mit einer mehrkanaligen Wasserdruck-, Durchfluss- und Temperaturmessung sowie einer automatischen Softwareüberwachung ausgestattet. Die verschiedenen Kühlkomponenten sind unabhängig voneinander, was eine schnelle Fehlerdiagnose ermöglicht. Alle Zweige verfügen über unabhängige Ventilschalter, was sicher und effizient ist.
4. Die elektrischen Steuerungskomponenten verfügen über einen großen LCD-Bildschirm mit Mensch-Maschine-Schnittstelle und arbeiten mit der vollautomatischen SPS-Steuerung zusammen, um die Bearbeitung und den Import von Prozessformeln zu erleichtern. Die grafische Kurve zeigt visuell die Änderungen und Werte verschiedener Parameter an. Die Geräte- und Prozessparameter werden automatisch aufgezeichnet und archiviert, um die Problemverfolgung und statistische Datenanalyse zu erleichtern.
5. Der Werkstückträger ist mit einem Servomotor ausgestattet, der das Heben und Senken des Substrattisches steuert. Der Substrattisch kann aus Graphit oder Rotkupfer bestehen. Die Temperatur wird über ein Thermoelement gemessen.
6. Die Rack-Komponenten können je nach Kundenwunsch als Ganzes oder einzeln entworfen werden, um den speziellen Handhabungsanforderungen der Kunden gerecht zu werden.
7. Die Dichtungsplattenkomponenten sind schön und elegant. Die Dichtungsplatten in verschiedenen Funktionsmodulbereichen des Geräts können schnell zerlegt oder unabhängig voneinander geöffnet und geschlossen werden, was sehr praktisch ist.

Heißfilament-CVD-Geräte eignen sich zum Abscheiden von Diamantmaterialien, einschließlich Dünnschichtbeschichtungen, selbsttragenden Dickschichtbeschichtungen, mikrokristallinen und nanokristallinen Diamanten, leitfähigen Diamanten usw. Sie werden hauptsächlich für verschleißfeste Schutzbeschichtungen von Schneidwerkzeugen aus Hartmetall, Halbleitermaterialien wie Silizium und Siliziumkarbid, Wärmeableitungsbeschichtungen von Geräten, mit Bor dotierte leitfähige Diamantelektroden, Ozondesinfektion von Elektrolytwasser oder Abwasserbehandlung verwendet.