Жижиг нуман эх үүсвэрийн ион бүрхүүлийн үйл явц

Катодын нуман эх үүсвэртэй ионы бүрхүүлийн үйл явц нь бусад бүрхүүлийн технологитой үндсэндээ ижил бөгөөд ажлын хэсгүүдийг суурилуулах, тоос сорогчоор соруулах зэрэг зарим үйлдлүүд давтагдахаа больсон.

1. Ажлын хэсгүүдийг бөмбөгдөлтөөр цэвэрлэх

Бүрэхээс өмнө аргон хийг 2×10-2Па вакуум ашиглан бүрэх камерт оруулна.

Ажлын мөчлөг 20%, ажлын хэсгийн хүчдэл 800-1000В байхаар импульсийн хэвийсэн цахилгаан хангамжийг асаана уу.

Нуман цахилгаан асаалттай үед хүйтэн талбайн нуман гэрлийн цэнэг алдалт үүсч, нуман эх үүсвэрээс их хэмжээний электрон гүйдэл болон титаны ионы гүйдэл ялгаруулж, өндөр нягтралтай плазм үүсгэдэг. Титаны ион нь ажлын хэсэгт хэрэглэсэн сөрөг өндөр даралтын дор ажлын хэсэгт шахах үйл явцыг хурдасгаж, ажлын гадаргуу дээр шингэсэн үлдэгдэл хий болон бохирдуулагчийг бөмбөгдөж, цацаж, ажлын гадаргууг цэвэрлэж, цэвэршүүлдэг; Үүний зэрэгцээ бүрхүүлийн камерт байгаа хлорын хий нь электроноор ионжиж, аргон ионууд нь ажлын гадаргууг бөмбөгдөхийг хурдасгадаг.

Тиймээс бөмбөгдөлтийн цэвэрлэгээний үр нөлөө сайн байдаг. Бөмбөлөгдөлтийн цэвэрлэгээнд ердөө 1 минут орчим л ажлын хэсгийг цэвэрлэж чаддаг бөгөөд үүнийг "гол нуман бөмбөгдөлт" гэж нэрлэдэг. Титаны ионы масс их байдаг тул жижиг нуман эх үүсвэрийг ажлын хэсгийг хэт удаан бөмбөгдөж, цэвэрлэхэд ашиглавал ажлын хэсгийн температур хэт халж, багажны ирмэг зөөлөрч болзошгүй. Ерөнхийдөө үйлдвэрлэлд жижиг нуман эх үүсвэрийг дээрээс доош нэг нэгээр нь асаадаг бөгөөд жижиг нуман эх үүсвэр бүрийг бөмбөгдөлтийн цэвэрлэгээний хугацаа ойролцоогоор 1 минут байдаг.

（1）Титан доод давхаргыг бүрэх

Кино болон суурь материалын хоорондох наалдацыг сайжруулахын тулд титан нитридийг бүрэхээс өмнө цэвэр титан суурь материалын давхаргыг ихэвчлэн бүрдэг. Вакуум түвшинг 5×10-2-3×10-1Па болгож, ажлын хэсгийн хэвийсэн хүчдэлийг 400-500В болгож, импульсийн хэвийсэн тэжээлийн хангамжийн ажлын мөчлөгийг 40%~50% болгож тохируулна. Хүйтэн талбайн нуман ялгаруулалт үүсгэхийн тулд жижиг нуман эх үүсвэрүүдийг нэг нэгээр нь асааж байна. Ажлын хэсгийн сөрөг хэвийсэн хүчдэл буурснаас болж титаны ионуудын энерги буурдаг. Ажлын хэсэгт хүрсний дараа цацалтын нөлөө нь тунадасны нөлөөнөөс бага бөгөөд титан нитридийн хатуу хальсан давхарга болон суурь материалын хоорондох холболтын хүчийг сайжруулахын тулд ажлын хэсэгт титаны шилжилтийн давхарга үүсдэг. Энэ процесс нь мөн ажлын хэсгийг халаах үйл явц юм. Цэвэр титаны байг цэнэггүй болгоход плазмын гэрэл цэнхэр өнгөтэй болдог.

1. Аммиактай аяга хатуу хальсан бүрхүүлтэй

Вакуум хэмийг 3×10 болгож тохируулна уу^-1-5Па, ажлын хэсгийн хэвийсэн хүчдэлийг 100-200В болгож, импульсийн хэвийсэн тэжээлийн хангамжийн ажлын мөчлөгийг 70% ~ 80% болгож тохируулна. Азотыг нэвтрүүлсний дараа титан нь нуман ялгаруулах плазмтай нэгдэж титан нитридийн хатуу хальс үүсгэдэг. Энэ үед вакуум камерт плазмын гэрэл интоорын улаан өнгөтэй байна. Хэрэв C байвал₂H₂, О₂гэх мэтийг танилцуулж байна, TiCN, TiO₂гэх мэт хальсан давхаргыг авч болно.

–Энэ нийтлэлийг Гуандун Жэнхуа нийтэлсэн.вакуум бүрэх машин үйлдвэрлэгч