Proces ionskog premaza izvora malog luka

Proces ionskog premaza iz izvora katodnog luka je u osnovi isti kao i kod drugih tehnologija premaza, a neke operacije kao što su ugradnja radnih komada i usisavanje se više ne ponavljaju.

1. Bombardirano čišćenje radnih komada

Prije nanošenja premaza, plin argon se uvodi u komoru za oblaganje uz vakuum od 2×10-2Pa.

Uključite napajanje impulsnog prednapona, sa radnim ciklusom od 20% i naponom radnog komada od 800-1000V.

Kada se uključi napajanje luka, stvara se lučno pražnjenje hladnog polja, koje emituje veliku količinu struje elektrona i struje jona titanijuma iz izvora luka, formirajući plazmu visoke gustine.Jon titana ubrzava svoje ubrizgavanje u radni predmet pod negativnim visokim pritiskom primijenjenog na radni predmet, bombardirajući i raspršujući zaostali plin i zagađivače adsorbirane na površini obratka, te čisteći i pročišćavajući površinu obratka;U isto vrijeme, plin klora u komori za oblaganje ioniziraju elektroni, a ioni argona ubrzavaju bombardiranje površine obratka.

Zbog toga je efekat čišćenja bombardovanjem dobar.Samo oko 1 minuta čišćenja bombardovanjem može očistiti radni komad, što se naziva “bombardiranjem glavnog luka”.Zbog velike mase jona titanijuma, ako se mali izvor luka koristi za predugo bombardovanje i čišćenje radnog predmeta, temperatura radnog komada je sklona pregrijavanju, a ivica alata može postati mekana.U općoj proizvodnji, mali izvori luka se uključuju jedan po jedan od vrha do dna, a svaki mali izvor luka ima vrijeme čišćenja bombardiranjem od oko 1 minute.

(1) Donji sloj premaza od titanijuma

Kako bi se poboljšala adhezija između filma i podloge, sloj čiste titanijumske podloge se obično premazuje prije oblaganja titanijum nitridom.Podesite nivo vakuuma na 5×10-2-3×10-1Pa, podesite napon prednapona radnog komada na 400-500V i podesite radni ciklus impulsnog napajanja na 40%~50%.I dalje pali male izvore luka jedan po jedan za stvaranje lučnog pražnjenja hladnog polja.Zbog smanjenja negativnog prednapona obratka, energija titanovih jona se smanjuje.Nakon dostizanja radnog predmeta, efekat raspršivanja je manji od efekta taloženja, a na radnom komadu se formira prelazni sloj od titanijuma kako bi se poboljšala sila vezivanja između sloja tvrdog filma titanijum nitrida i podloge.Ovaj proces je ujedno i proces zagrijavanja radnog komada.Kada se meta od čistog titanijuma isprazni, svetlost u plazmi je azurno plava.

1.Tvrdi film premaz od amonizirane posude

Podesite stepen vakuuma na 3×10^-1-5Pa, podesite napon prednapona radnog komada na 100-200V i podesite radni ciklus impulsnog napajanja na 70%~80%.Nakon uvođenja azota, titanijum je kombinovana reakcija sa plazmom lučnog pražnjenja za taloženje tvrdog filma titanijum nitrida.U ovom trenutku, svjetlost plazme u vakuumskoj komori je trešnje crvena.Ako C₂H₂, O₂, itd. uvode se TiCN, TiO₂itd. mogu se dobiti slojevi filma.

– Ovaj članak je objavio Guangdong Zhenhua, aproizvođač mašina za vakumsko premazivanje