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Le procédé de revêtement ionique par petite source d'arc

Source de l'article : Zhenhua Vacuum
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Publié le : 23-06-01

Le procédé de revêtement ionique par source d'arc cathodique est fondamentalement le même que celui des autres technologies de revêtement, et certaines opérations telles que l'installation des pièces et la mise sous vide ne sont plus répétées.

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1. Nettoyage par bombardement des pièces

Avant le revêtement, du gaz argon est introduit dans la chambre de revêtement sous un vide de 2×10-2Pa.

Mettez en marche l'alimentation de polarisation par impulsions, avec un rapport cyclique de 20 % et une polarisation de la pièce de 800 à 1000 V.

Lorsque l'alimentation de l'arc est activée, une décharge d'arc froid est générée, émettant un important courant d'électrons et d'ions titane depuis la source d'arc, formant ainsi un plasma haute densité. Sous l'effet d'une forte pression négative appliquée à la pièce, les ions titane sont injectés avec accélération dans celle-ci, bombardant et pulvérisant les gaz résiduels et les polluants adsorbés à sa surface, et la nettoyant et la purifiant. Simultanément, le chlore gazeux présent dans la chambre de revêtement est ionisé par les électrons, et les ions argon accélèrent le bombardement de la surface de la pièce.

Par conséquent, le nettoyage par bombardement est efficace. Une minute de bombardement suffit à nettoyer la pièce ; on parle alors de « bombardement à arc principal ». En raison de la masse élevée des ions titane, un bombardement et un nettoyage prolongés avec une source à arc de petite taille risquent d'entraîner une surchauffe de la pièce et un ramollissement du tranchant de l'outil. En production courante, les sources à arc de petite taille sont activées successivement, de haut en bas, chaque source assurant un nettoyage par bombardement d'environ une minute.

(1) Revêtement de la couche inférieure en titane

Afin d'améliorer l'adhérence entre le film et le substrat, une couche de titane pur est généralement déposée avant le dépôt de nitrure de titane. Le niveau de vide est ajusté à 5 × 10⁻² à 3 × 10⁻¹ Pa, la tension de polarisation de la pièce à 400-500 V et le rapport cyclique de l'alimentation de polarisation pulsée à 40-50 %. De petites sources d'arc sont ensuite amorcées successivement pour générer une décharge d'arc à champ froid. La diminution de la tension de polarisation négative de la pièce entraîne une diminution de l'énergie des ions titane. Au contact de la pièce, l'effet de pulvérisation est inférieur à l'effet de dépôt, et une couche de transition de titane se forme, renforçant l'adhérence entre la couche de nitrure de titane et le substrat. Ce procédé permet également le chauffage de la pièce. Lors de la décharge de la cible de titane pur, la lumière du plasma est bleu azur.

1. Revêtement dur pour bol ammonié

Réglez le degré de vide à 3×10-1À -5 Pa, ajustez la tension de polarisation de la pièce à 100-200 V et le rapport cyclique de l'alimentation de polarisation pulsée à 70-80 %. Après introduction d'azote, le titane réagit avec le plasma de la décharge d'arc pour déposer un film dur de nitrure de titane. À ce stade, la lumière du plasma dans la chambre à vide est rouge cerise. Si C2H2, O2, etc. sont introduits, TiCN, TiO2, etc., des couches de film peuvent être obtenues.

–Cet article a été publié par Guangdong Zhenhua, unfabricant de machines de revêtement sous vide


Date de publication : 1er juin 2023