Le processus de revêtement ionique de la source d'arc cathodique est fondamentalement le même que les autres technologies de revêtement, et certaines opérations telles que l'installation des pièces et l'aspiration ne sont plus répétées.
1. Nettoyage par bombardement des pièces
Avant le revêtement, du gaz argon est introduit dans la chambre de revêtement avec un vide de 2×10-2Pa.
Allumez l'alimentation de polarisation d'impulsion, avec un cycle de service de 20 % et une polarisation de pièce de 800 à 1 000 V.
À la mise sous tension de l'arc, une décharge lumineuse d'arc à champ froid est générée, émettant un important courant d'électrons et d'ions titane depuis la source d'arc, formant un plasma haute densité. Sous l'effet de la pression négative élevée appliquée à la pièce, l'ion titane accélère son injection dans la pièce, bombardant et pulvérisant les gaz résiduels et les polluants adsorbés à sa surface, la nettoyant et la purifiant. Parallèlement, le chlore gazeux présent dans la chambre de revêtement est ionisé par les électrons, tandis que les ions argon accélèrent le bombardement de la surface de la pièce.
Par conséquent, l'effet de nettoyage par bombardement est excellent. Une minute environ suffit pour nettoyer la pièce, ce que l'on appelle le « bombardement à l'arc principal ». En raison de la masse élevée des ions titane, si une petite source d'arc est utilisée pour bombarder et nettoyer la pièce trop longtemps, la température de la pièce risque de surchauffer et le tranchant de l'outil peut devenir mou. En production générale, les petites sources d'arc sont allumées une par une, de haut en bas, et chaque petite source d'arc a un temps de nettoyage par bombardement d'environ une minute.
（1）Revêtement de la couche inférieure en titane
Afin d'améliorer l'adhérence entre le film et le substrat, une couche de titane pur est généralement appliquée avant le nitrure de titane. Le niveau de vide est ajusté à 5 × 10-2-3 × 10-1 Pa, la tension de polarisation de la pièce à 400-500 V et le rapport cyclique de l'alimentation de polarisation pulsée à 40-50 %. Les petites sources d'arc sont ensuite allumées une par une pour générer une décharge d'arc en champ froid. La diminution de la tension de polarisation négative de la pièce entraîne une diminution de l'énergie des ions titane. Après avoir atteint la pièce, l'effet de pulvérisation cathodique est inférieur à l'effet de dépôt, et une couche de transition en titane se forme sur la pièce pour améliorer la force de liaison entre le film dur de nitrure de titane et le substrat. Ce processus consiste également à chauffer la pièce. Lorsque la cible en titane pur est déchargée, la lumière du plasma est bleu azur.
1. Revêtement de film dur pour bol ammoniac
Réglez le degré de vide à 3×10-1-5 Pa, régler la tension de polarisation de la pièce à 100-200 V et le rapport cyclique de l'alimentation de polarisation pulsée à 70-80 %. Après l'introduction d'azote, le titane réagit avec le plasma de décharge en arc pour déposer une couche dure de nitrure de titane. À ce stade, la lumière du plasma dans la chambre à vide est rouge cerise. Si C2H2, O2, etc. sont introduits, TiCN, TiO2, etc. des couches de film peuvent être obtenues.
–Cet article a été publié par Guangdong Zhenhua, unfabricant de machines de revêtement sous vide
Date de publication : 01/06/2023