Diese Anlagenserie nutzt Magnetron-Targets, um Beschichtungsmaterialien in Nanopartikel umzuwandeln, die anschließend auf Substratoberflächen abgeschieden werden, um dünne Schichten zu bilden. Die aufgerollte Folie wird in die Vakuumkammer eingelegt. Mithilfe der elektrisch angetriebenen Wickelvorrichtung wird die Folie an einem Ende aufgenommen und am anderen wieder abgegeben. Anschließend durchläuft sie den Targetbereich und nimmt dabei die Targetpartikel auf, um eine dichte Schicht zu bilden.
Merkmal:
1. Folienformung bei niedrigen Temperaturen. Die Temperatur hat nur geringen Einfluss auf die Folie und führt nicht zu Verformungen. Das Verfahren eignet sich für Spulenfolien aus PET, PI und anderen Basismaterialien.
2. Die Schichtdicke kann gezielt eingestellt werden. Dünne oder dicke Beschichtungen lassen sich durch Prozessanpassung erzeugen und aufbringen.
3. Flexibles Design mit mehreren Targetpositionen. Die Anlage kann mit bis zu acht Targets ausgestattet werden, die entweder als einfache Metalltargets oder als Compound- und Oxidtargets verwendet werden können. Sie eignet sich zur Herstellung von einschichtigen Filmen mit einfacher Struktur oder mehrschichtigen Filmen mit Verbundstruktur. Der Prozess ist äußerst flexibel.
Mit dem Gerät lassen sich elektromagnetische Abschirmfolien, Beschichtungen für flexible Leiterplatten, verschiedene dielektrische Folien, mehrlagige AR-Antireflexfolien, HR-Hoch-Antireflexfolien, Farbfolien usw. herstellen. Das Gerät hat ein sehr breites Anwendungsspektrum, und die Abscheidung von Einzelschichten kann in einem einzigen Abscheidungsvorgang erfolgen.
Die Anlage kann einfache Metalltargets wie Al, Cr, Cu, Fe, Ni, SUS, TiAl usw. oder Verbundtargets wie SiO2, Si3N4, Al2O3, SnO2, ZnO, Ta2O5, ITO, AZO usw. verwenden.
Das Gerät ist klein, kompakt, platzsparend, energiearm und flexibel einstellbar. Es eignet sich hervorragend für die Prozessforschung und -entwicklung sowie die Kleinserienfertigung.