RCW600

Denna serie av utrustning använder magnetronmål för att omvandla beläggningsmaterial till nanometerstora partiklar, som avsätts på ytan av substrat för att bilda tunna filmer.Den rullade filmen placeras i vakuumkammaren.Genom den elektriskt drivna lindningsstrukturen tar den ena änden emot filmen och den andra lägger filmen.Den fortsätter att passera genom målområdet och tar emot målpartiklarna för att bilda en tät film.
Karakteristisk:

1. Lågtemperaturfilmbildning.Temperaturen har liten effekt på filmen och ger ingen deformation.Den är lämplig för PET, PI och andra spolfilmer av basmaterial.
2. Filmtjockleken kan utformas.Tunna eller tjocka beläggningar kan utformas och deponeras genom processjustering.
3. Utformning av flera målplatser, flexibel process.Hela maskinen kan utrustas med åtta mål, som kan användas som antingen enkla metallmål eller sammansatta och oxidmål.Den kan användas för att framställa enskiktsfilmer med enkelstruktur eller flerskiktsfilmer med kompositstruktur.Processen är mycket flexibel.

Utrustningen kan förbereda elektromagnetisk skärmningsfilm, flexibel kretskortsbeläggning, olika dielektriska filmer, flerskikts AR antireflektionsfilm, HR hög antireflektionsfilm, färgfilm, etc. utrustningen har ett mycket brett spektrum av applikationer, och enskiktsfilmavsättning kan fullföljas genom engångsfilmdeponering.
Utrustningen kan använda enkla metallmål som Al, Cr, Cu, Fe, Ni, SUS, TiAl, etc., eller sammansatta mål som SiO2, Si3N4, Al2O3, SnO2, ZnO, Ta2O5, ITO, AZO, etc.

Utrustningen är liten i storleken, kompakt i strukturdesign, liten golvyta, låg energiförbrukning och flexibel i justering.Den är mycket lämplig för processforskning och utveckling eller massproduktion i små partier.