RCW600

ชุดอุปกรณ์นี้ใช้เป้าหมายแมกนีตรอนเพื่อเปลี่ยนวัสดุเคลือบให้เป็นอนุภาคขนาดนาโนเมตร ซึ่งสะสมอยู่บนพื้นผิวของวัสดุพิมพ์เพื่อสร้างฟิล์มบางๆฟิล์มที่รีดไว้จะอยู่ในห้องสุญญากาศผ่านโครงสร้างไขลานที่ขับเคลื่อนด้วยไฟฟ้า ปลายด้านหนึ่งจะรับฟิล์มและอีกด้านหนึ่งจะใส่ฟิล์มผ่านพื้นที่เป้าหมายอย่างต่อเนื่องและรับอนุภาคเป้าหมายเพื่อสร้างฟิล์มที่หนาแน่น
ลักษณะ:

1. การขึ้นรูปฟิล์มที่อุณหภูมิต่ำอุณหภูมิมีผลเพียงเล็กน้อยต่อฟิล์มและจะไม่ทำให้เกิดการเสียรูปเหมาะสำหรับ PET, PI และฟิล์มขดวัสดุฐานอื่นๆ
2. สามารถออกแบบความหนาของฟิล์มได้การเคลือบบางหรือหนาสามารถออกแบบและสะสมได้โดยการปรับกระบวนการ
3. การออกแบบตำแหน่งเป้าหมายที่หลากหลาย กระบวนการที่ยืดหยุ่นเครื่องจักรทั้งหมดสามารถติดตั้งได้แปดเป้าหมาย ซึ่งสามารถใช้เป็นทั้งเป้าหมายโลหะธรรมดาหรือเป้าหมายสารประกอบและออกไซด์สามารถใช้ในการเตรียมฟิล์มชั้นเดียวที่มีโครงสร้างเดียวหรือฟิล์มหลายชั้นที่มีโครงสร้างประกอบกระบวนการนี้มีความยืดหยุ่นมาก

อุปกรณ์นี้สามารถเตรียมฟิล์มป้องกันแม่เหล็กไฟฟ้า, การเคลือบแผงวงจรแบบยืดหยุ่น, ฟิล์มไดอิเล็กทริกแบบต่างๆ, ฟิล์มกันแสงสะท้อน AR หลายชั้น, ฟิล์มกันแสงสะท้อนสูง HR, ฟิล์มสี ฯลฯ อุปกรณ์มีการใช้งานที่หลากหลายมาก และการทับถมฟิล์มชั้นเดียว สามารถทำได้โดยการเคลือบฟิล์มเพียงครั้งเดียว
อุปกรณ์สามารถใช้เป้าหมายโลหะอย่างง่าย เช่น Al, Cr, Cu, Fe, Ni, SUS, TiAl เป็นต้น หรือเป้าหมายแบบผสม เช่น SiO2, Si3N4, Al2O3, SnO2, ZnO, Ta2O5, ITO, AZO เป็นต้น

อุปกรณ์มีขนาดเล็ก ออกแบบโครงสร้างกะทัดรัด พื้นที่พื้นน้อย ใช้พลังงานต่ำ และปรับเปลี่ยนได้คล่องตัวเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการวิจัยและพัฒนากระบวนการหรือการผลิตจำนวนมากในปริมาณน้อย