RCW600

Seri peralatan iki nggunakake target magnetron kanggo ngowahi bahan pelapis dadi partikel ukuran nanometer, sing diendapkan ing permukaan substrat kanggo mbentuk film tipis. Film sing digulung dilebokake ing ruang vakum. Liwat struktur gulungan sing digerakake kanthi listrik, salah siji ujung nampa film lan ujung liyane nyelehake film kasebut. Terus ngliwati area target lan nampa partikel target kanggo mbentuk film sing padhet.
Ciri khas:

1. Mbentuk film suhu endhek. Suhu ora pati mengaruhi film lan ora bakal ngasilake deformasi. Cocok kanggo PET, PI lan film koil bahan dasar liyane.
2. Kekandelan film bisa dirancang. Lapisan tipis utawa kandel bisa dirancang lan diendapkan kanthi penyesuaian proses.
3. Desain lokasi target sing maneka warna, proses sing fleksibel. Mesin iki kabeh bisa dilengkapi wolung target, sing bisa digunakake minangka target logam prasaja utawa target senyawa lan oksida. Bisa digunakake kanggo nyiyapake film lapisan tunggal kanthi struktur tunggal utawa film multi-lapisan kanthi struktur komposit. Proses iki fleksibel banget.

Piranti kasebut bisa nyiyapake film pelindung elektromagnetik, lapisan papan sirkuit fleksibel, macem-macem film dielektrik, film antirefleksi AR multi-lapisan, film antirefleksi HR dhuwur, film warna, lan liya-liyane. Piranti kasebut duwe macem-macem aplikasi, lan deposisi film lapisan tunggal bisa dirampungake kanthi deposisi film sapisan.
Piranti kasebut bisa nggunakake target logam prasaja kayata Al, Cr, Cu, Fe, Ni, SUS, TiAl, lan liya-liyane, utawa target senyawa kayata SiO2, Si3N4, Al2O3, SnO2, ZnO, Ta2O5, ITO, AZO, lan liya-liyane.

Piranti iki ukurane cilik, desain strukture ringkes, jembar lantaine cilik, konsumsi energine murah, lan fleksibel kanggo diatur. Piranti iki cocok banget kanggo riset lan pangembangan proses utawa produksi massal batch cilik.