आरसीडब्ल्यू600

इस उपकरण श्रृंखला में मैग्नेट्रॉन लक्ष्यों का उपयोग करके कोटिंग सामग्री को नैनोमीटर आकार के कणों में परिवर्तित किया जाता है, जिन्हें पतली परतें बनाने के लिए सब्सट्रेट की सतह पर जमा किया जाता है। लुढ़की हुई परत को निर्वात कक्ष में रखा जाता है। विद्युत चालित वाइंडिंग संरचना के माध्यम से, एक सिरा परत को ग्रहण करता है और दूसरा सिरा परत को जमा करता है। यह लगातार लक्ष्य क्षेत्र से गुजरती है और लक्ष्य कणों को ग्रहण करके एक सघन परत बनाती है।
विशेषता:

1. कम तापमान पर फिल्म निर्माण। तापमान का फिल्म पर बहुत कम प्रभाव पड़ता है और इससे कोई विकृति उत्पन्न नहीं होती। यह पीईटी, पीआई और अन्य आधार सामग्री से बनी कॉइल फिल्मों के लिए उपयुक्त है।
2. फिल्म की मोटाई को डिजाइन किया जा सकता है। प्रक्रिया में समायोजन करके पतली या मोटी परतें बनाई और जमा की जा सकती हैं।
3. एकाधिक लक्ष्य स्थान डिजाइन, लचीली प्रक्रिया। पूरी मशीन में आठ लक्ष्य लगाए जा सकते हैं, जिनका उपयोग साधारण धातु लक्ष्यों या यौगिक और ऑक्साइड लक्ष्यों के रूप में किया जा सकता है। इसका उपयोग एकल संरचना वाली एकल-परत फिल्मों या मिश्रित संरचना वाली बहु-परत फिल्मों को तैयार करने के लिए किया जा सकता है। प्रक्रिया अत्यंत लचीली है।

यह उपकरण विद्युत चुम्बकीय परिरक्षण फिल्म, लचीली सर्किट बोर्ड कोटिंग, विभिन्न प्रकार की परावैद्युत फिल्में, बहु-परत एआर परावर्तन फिल्म, एचआर उच्च परावर्तन फिल्म, रंगीन फिल्म आदि तैयार कर सकता है। इस उपकरण का अनुप्रयोगों का दायरा बहुत व्यापक है, और एक बार में फिल्म जमाव करके एकल-परत फिल्म जमाव को पूरा किया जा सकता है।
यह उपकरण एल्युमिनियम, क्रोमियम, कॉपर, आयरन, निकेल, एसयूएस, टीआईएल आदि जैसे सरल धातु लक्ष्यों या SiO2, Si3N4, Al2O3, SnO2, ZnO, Ta2O5, ITO, AZO आदि जैसे यौगिक लक्ष्यों को अपना सकता है।

यह उपकरण आकार में छोटा, संरचना में सुगठित, कम जगह घेरने वाला, कम ऊर्जा खपत वाला और समायोजन में लचीला है। यह प्रक्रिया अनुसंधान और विकास या छोटे पैमाने पर उत्पादन के लिए अत्यंत उपयुक्त है।