RCW600

Esta série de equipamentos utiliza alvos de magnetron para converter materiais de revestimento em partículas de tamanho nanométrico, que são depositadas na superfície de substratos para formar filmes finos. O filme enrolado é colocado na câmara de vácuo. Através da estrutura de enrolamento acionada eletricamente, uma extremidade recebe o filme e a outra o deposita. Em seguida, o filme continua passando pela área do alvo e recebe as partículas para formar um filme denso.
Característica:

1. Formação de filme em baixa temperatura. A temperatura tem pouco efeito sobre o filme e não causa deformação. É adequado para filmes em bobina de PET, PI e outros materiais base.
2. A espessura da película pode ser controlada. Revestimentos finos ou espessos podem ser projetados e depositados por meio de ajustes no processo.
3. Design com múltiplos alvos, processo flexível. A máquina pode ser equipada com oito alvos, que podem ser usados ​​tanto como alvos metálicos simples quanto como alvos compostos e de óxido. Ela pode ser usada para preparar filmes de camada única com estrutura simples ou filmes multicamadas com estrutura composta. O processo é muito flexível.

O equipamento pode preparar película de blindagem eletromagnética, revestimento para placas de circuito flexíveis, diversos filmes dielétricos, película antirreflexo AR multicamadas, película antirreflexo HR de alta resolução, película colorida, etc. O equipamento possui uma ampla gama de aplicações, e a deposição de película de camada única pode ser concluída em uma única deposição.
O equipamento pode utilizar alvos metálicos simples, como Al, Cr, Cu, Fe, Ni, SUS, TiAl, etc., ou alvos compostos, como SiO2, Si3N4, Al2O3, SnO2, ZnO, Ta2O5, ITO, AZO, etc.

O equipamento é de tamanho reduzido, com design de estrutura compacta, ocupa pouco espaço, consome pouca energia e é flexível em ajustes. É muito adequado para pesquisa e desenvolvimento de processos ou produção em massa de pequenos lotes.