HFCVD0606

Camera de acoperire în vid a echipamentului de depunere chimică din vapori adoptă o structură independentă de răcire cu apă cu două straturi, eficientă și uniformă, având o structură sigură și stabilă. Echipamentul este proiectat cu uși duble, ferestre multiple de observare și interfețe multiple de expansiune, ceea ce este convenabil pentru conectarea externă a perifericelor auxiliare, cum ar fi măsurarea temperaturii în infraroșu, analiza spectrală, monitorizarea video și termocuplul. Conceptul avansat de design face ca revizia și întreținerea zilnică, schimbarea configurației și modernizarea echipamentului să fie ușoare și simple și reduce eficient costurile de utilizare și modernizare.

Caracteristici ale echipamentului:

1. Componentele de umflare ale echipamentului includ în principal debitmetrul masic, electrovalva și rezervorul de amestecare a gazelor, care asigură controlul precis al debitului de gaz de proces, amestecarea uniformă și izolarea sigură a diferitelor gaze și pot selecta componentele sistemului de gaz pentru utilizarea sursei de gaz lichid, facilitând selecția personalizată a unei game largi de surse de carbon lichid și utilizarea în siguranță a surselor de diamant conductiv sintetic și a borului lichid pentru electrozi.
2. Ansamblul de extracție a aerului este echipat cu o pompă de vid rotativă cu palete silențioasă și eficientă și un sistem de pompe turbo moleculare care poate face față rapid mediului de vid înalt. Pentru măsurarea vidului se utilizează un vacuometru compozit cu manometru de rezistență și un manometru de ionizare, precum și un sistem de manometru cu film capacitiv care poate măsura presiunea diferitelor gaze de proces într-o gamă largă. Presiunea de depunere este controlată complet automat de o supapă de control proporțională de înaltă precizie.
3. Componenta apei de răcire este echipată cu un sistem multicanal de măsurare a presiunii, debitului și temperaturii apei și monitorizare automată prin software. Diferitele componente de răcire sunt independente una de cealaltă, ceea ce este convenabil pentru diagnosticarea rapidă a defecțiunilor. Toate ramificațiile au comutatoare independente pentru valve, ceea ce este sigur și eficient.
4. Componentele de control electric adoptă un ecran LCD cu interfață om-mașină de dimensiuni mari și cooperează cu controlul complet automat al PLC pentru a facilita editarea și importul formulelor de proces. Curba grafică afișează vizual modificările și valorile diferiților parametri, iar parametrii echipamentului și ai procesului sunt înregistrați și arhivați automat pentru a facilita urmărirea problemelor și analiza statistică a datelor.
5. Suportul pentru piese este echipat cu un servomotor pentru a controla ridicarea și coborârea mesei de substrat. Se poate selecta o masă de substrat din grafit sau cupru roșu. Temperatura este măsurată cu un termocuplu.
6. Componentele rack-ului pot fi proiectate ca un întreg sau separat, în funcție de cerințele clientului, pentru a satisface cerințele speciale de manipulare ale acestora.
7. Componentele plăcii de etanșare sunt frumoase și elegante. Plăcile de etanșare din diferitele zone ale modulelor funcționale ale echipamentului pot fi dezasamblate rapid sau deschise și închise independent, ceea ce este foarte convenabil de utilizat.

Echipamentul CVD cu filament fierbinte este potrivit pentru depunerea de materiale diamantate, inclusiv acoperiri cu peliculă subțire, peliculă groasă autoportantă, diamante microcristaline și nanocristaline, diamante conductive etc. Se utilizează în principal pentru acoperirea protectoare rezistentă la uzură a sculelor așchietoare din carbură cimentată, materiale semiconductoare precum siliciu și carbură de siliciu, acoperirea cu disiparea căldurii a dispozitivelor, electrozi de diamant conductivi dopați cu bor, dezinfecția cu ozon a apei electrolitice sau a epurării apelor uzate.