Vaega o le ufiufi o le magnetron sputtering mataupu 1

Pe a faʻatusatusa i isi tekinolosi ufiufi, o le ufiufi sputtering e iai ona uiga taua nei: o faʻatulagaga faigaluega e iai se lautele tele o fetuʻunaʻiga faʻaonaponei, o le saoasaoa o le teuina o le ufiufi ma le mafiafia (le tulaga o le eria ufiufi) e faigofie ona pulea, ma e leai ni faʻatapulaʻaina o mamanu i luga o le geometry o le sini sputtering e faʻamautinoa ai le tutusa o le ufiufi; O le vaega o le ata tifaga e leai se faʻafitauli o ni vaega o mataua: toetoe lava o uʻamea uma, alloys ma mea seramika e mafai ona faia i mea faʻamoemoe; E ala i le DC poʻo le RF sputtering, o ufiufi uʻamea mama poʻo alloy e iai le fua saʻo ma le tumau ma ata tifaga tali uʻamea ma le auai o le kesi e mafai ona gaosia e faʻafetaui ai manaʻoga eseese ma le saʻo maualuga o ata tifaga. O faʻatulagaga masani o le ufiufi sputtering o: o le mamafa galue o le 01Pa; O le voltage faʻamoemoe o le 300 ~ 700V, ma le mamafa o le malosiaga faʻamoemoe o le 1 ~ 36W / cm2. O uiga patino o le sputtering o:

(1) Maualuga le fua faatatau o le fa'aputuina. Ona o le fa'aaogaina o eletise, e mafai ona maua ai ni tafega tetele o le ion e fa'aaogaina i le sini, o lea e maualuga ai le fua faatatau o le fa'aputuina o le ie i luga o le sini ma le fua faatatau o le fa'aputuina o le ata tifaga i luga o le fogaeleele.

(2) Lelei tele o le malosiaga. E maualuga le avanoa e feto'ai ai eletise e maualalo le malosi ma atomu kesi, o lea e matua fa'ateleina ai le fua faatatau o le ionization o le kesi. O le mea lea, e matua fa'aitiitia ai le impedance o le discharge gas (po'o le plasma). O le mea lea, pe a fa'atusatusa i le DC two-pole sputtering, e tusa lava pe fa'aitiitia le mamafa o le galuega mai le 1~10Pa i le 10-2~10-1Pa, e fa'aitiitia le sputtering voltage mai le tele o afe volts i le selau volts, ma e fa'ateleina ai le sputtering efficiency ma le deposition rate i ni fa'atonuga o le tele.

(3) Fa'asu'u'u maualalo le malosi. Ona o le maualalo o le voltage cathode e fa'aoga i le sini, o le plasma e fusifusia i le avanoa e lata ane i le cathode e se fanua maneta, lea e taofia ai le sosolo o vaega mamafa e maualuga le malosi i le itu o le substrate. O le mea lea, o le tulaga o le fa'aleagaina e mafua mai i le fa'apa'uina o vaega mamafa i substrates e pei o masini semiconductor e maualalo ifo nai lo isi metotia sputtering.

–O lenei tusiga ua fa'asalalauina egaosi oloa masini ufiufi vacuumGuangdong Zhenhua.