Fa'ailoga o le fa'apipi'iina o le maneta mata'upu 1

Pe a faʻatusatusa i isi tekinolosi faʻapipiʻi, o le faʻapipiʻiina o le faʻapipiʻiina o loʻo i ai uiga taua nei: o le galuega o loʻo i ai le tele o fetuutuunaiga faʻavavevave, o le saoasaoa o le faʻapipiʻiina o le ufiufi ma le mafiafia (o le tulaga o le mea e ufiufi ai) e faigofie ona pulea, ma e leai ni faʻatapulaʻa mamanu i luga o le geometry o le sputtering sini e faʻamautinoa ai le tutusa o le ufiufi; O le ata tifaga e leai se faʻafitauli o mea faʻafefete: toetoe lava o uʻamea uma, uʻamea ma mea sima e mafai ona faia i mea faʻatatau; E ala i le DC poʻo le RF sputtering, uʻamea mama poʻo faʻapipiʻi faʻapipiʻi faʻatasi ma faʻatusatusaga saʻo ma tumau ma faʻataʻitaʻiga uʻamea faʻatasi ma le kesi e mafai ona faʻatupuina e faʻafetaui ai manaoga eseese ma maualuga o ata tifaga. O faʻasologa masani o le faʻaogaina o le faʻapipiʻiina o le ufiufi o: o le mamafa galue o le 01Pa; Ole faʻamoemoega voltage o le 300 ~ 700V, ma le maualuga o le mana o le 1 ~ 36W / cm2. O uiga faʻapitoa o sputtering o:

(1) Tulaga maualuga o le teuina. Ona o le faʻaaogaina o electrodes, e mafai ona maua ai le tele o le pomu ion, o lea e maualuga ai le fua o le etching sputtering i luga o le faʻamoemoega ma le maualuga o le faʻaogaina o ata i luga o le substrate.

(2) Malosiaga maualuga. O le avanoa o le faʻalavelave i le va o le eletise eletise maualalo ma le kasa e maualuga, o lea e matua faateleina ai le fua o le kesi. E tutusa, o le faʻalavelave o le kesi faʻasalalau (poʻo le plasma) ua matua faʻaitiitia. O le mea lea, pe a faʻatusatusa i le DC lua-pole sputtering, e tusa lava pe faʻaitiitia le mamafa o le galue mai le 1 ~ 10Pa i le 10-2 ~ 10-1Pa, o le voltage sputtering e faʻaititia mai le tele o afe volts i le selau o volts, ma le faʻaleleia o le malosi o le sputtering ma le faʻapipiʻiina o fua faatatau e ala i poloaiga o le tele.

(3) Sputtering maualalo le malosi. Ona o le maualalo o le cathode voltage o loʻo faʻaaogaina i le sini, o loʻo fusifusia le plasma i le avanoa e lata ane i le cathode e ala i se mageta, lea e faʻalavelaveina ai le faʻalavelaveina o mea faʻapipiʻi maualuga le malosi i le itu o le substrate. O le mea lea, o le maualuga o le faʻaleagaina e mafua mai i le osofaʻia o fasimea faʻapipiʻi i substrates pei o masini semiconductor e maualalo ifo nai lo isi auala sputtering.

–O lenei tusiga ua tatalaina emasini fa'apipi'i gaogao gaosimeaGuangdong Zhenhua.