ဖုန်စုပ်စက် cathode arc အိုင်းယွန်းcoating ကို vacuum arc လို့ အတိုကောက်ခေါ်ပါတယ်။coစားနေသည်။ လေဟာနယ် နှစ်ခု သို့မဟုတ် ထို့ထက်ပိုသော လေဟာနယ် အငွေ့ပျံခြင်း ရင်းမြစ် ( arc ရင်းမြစ်များဟု ရည်ညွှန်းသည်) ကို အသုံးပြုပါက ၎င်းကို multi arc ion ဟုခေါ်သည်coating သို့မဟုတ် multi arccoစားနေသည်။ ၎င်းသည် ရေငွေ့ပျံခြင်းအရင်းအမြစ်များအတွက် လေဟာနယ်အငွေ့ပျံခြင်းကို အသုံးပြုသည့် ဖုန်စုပ်အိုင်ယွန်းအပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။ Hollow cathode discharge ၏ ပူသော အီလက်ထရွန် arc နှင့် မတူဘဲ၊ ၎င်း၏ arc form သည် cool cathode ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် cathode arc အစက်အပြောက်များ ဖွဲ့စည်းခြင်း ဖြစ်သည်။
လေဟာနယ် cathode arc အိုင်းယွန်း၏ဝိသေသလက္ခဏာများcoစားနေကြသည်-
(1) အငွေ့ပျံခြင်းအရင်းအမြစ်သည် သွန်းသောရေကန်မလိုအပ်ဘဲ cathode ပစ်မှတ်မှ ပလာစမာကို တိုက်ရိုက်ထုတ်ပေးသည့် အစိုင်အခဲ cathode ပစ်မှတ်ဖြစ်သည်။ တူညီသောအပေါ်ယံပိုင်းသေချာစေရန် arc ပစ်မှတ်အရင်းအမြစ်ကို မည်သည့်ဦးတည်ချက်နှင့်မဆို အရင်းအမြစ်မျိုးစုံကို စီစဉ်နိုင်သည်။
(၂) စက်ကိရိယာဖွဲ့စည်းပုံသည် အလုပ်လုပ်သောဓာတ်ငွေ့ သို့မဟုတ် အရန်အိုင်ယွန်ပြုခြင်းနည်းလမ်းများမလိုအပ်ဘဲ အတော်လေးရိုးရှင်းပါသည်။ arc ပစ်မှတ်အရင်းအမြစ်သည် cathode ပစ္စည်းအတွက် အငွေ့ပျံခြင်းအရင်းအမြစ်သာမက အိုင်းယွန်းအရင်းအမြစ်တစ်ခုလည်းဖြစ်သည်။ ဓာတ်ပြုခြင်းအတွင်း ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့များသာ တည်ရှိပြီး ရိုးရှင်းသော ဖိအားအပြည့်ထိန်းချုပ်မှုဖြင့် လေထုကို ထိန်းချုပ်ထားသည်။
(၃) အိုင်ယွန်ဓာတ်ပြုနှုန်း မြင့်မားပြီး ယေဘုယျအားဖြင့် 60% ~ 80% အထိ ရောက်ရှိပြီး အစစ်ခံနှုန်း မြင့်မားသည်။
(၄) အိုင်းယွန်း စွမ်းအင် မြင့်မားပြီး စုဆောင်းထားသော ဖလင်၏ ဖလင်/အလွှာ တွယ်ဆက်မှု အားကောင်းသည်။
(၅) အန္တရာယ်ကင်းစွာ လည်ပတ်နိုင်ရန် ဗို့အားနိမ့် ပါဝါထောက်ပံ့မှုကို အသုံးပြုခြင်း။
(၆) သတ္တုရုပ်ရှင်များ၊ အလွိုင်းဖလင်များကို အပ်နှံနိုင်ပြီး အမျိုးမျိုးသော ဒြပ်ပေါင်းရုပ်ရှင်များ (အမိုးနီးယားဒြပ်ပေါင်းများ၊ ကာဗိုက်များ၊ အောက်ဆိုဒ်) များကို ဓာတ်ပြု၍ ပေါင်းစပ်ကာ DLC ရုပ်ရှင်များ၊ CN ဖလင်များ စသည်တို့ကိုပင် ပေါင်းစပ်နိုင်သည်။ ၎င်း၏ အားနည်းချက်မှာ အစစ်ခံစဉ်အတွင်း အရည်အစက်ငယ်များသည် ပစ်မှတ်မျက်နှာပြင်မှ ကွဲထွက်ကာ၊ coated film layer တွင် ပေါင်းစည်းပြီး ဖလင်အလွှာကို တိုးပွားစေပါသည်။ လောလောဆယ်တွင် ဤမိုက်ခရိုအမှုန်အမွှားများကို လျှော့ချရန်နှင့် ဖယ်ရှားရန် ထိရောက်သောနည်းလမ်းများစွာကို လေ့လာထားသည်။
ဖုန်စုပ်စက် အိုင်းယွန်းcoလိမ်းဆေးနည်းပညာကို ကိရိယာများနှင့် မှိုများအတွက် အလွန်မာကျောသော အကာအကွယ်အလွှာများကို ဖုံးအုပ်ရန် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုခဲ့သည်။ ဖလင်စနစ်များတွင် TiN၊ ZrN၊ HfN၊ TiAIN၊ TiC၊ TiNC၊ CrN၊ Al2O3၊ DLC အစရှိသည်တို့ ပါဝင်ပါသည်။ အပေါ်ယံပစ္စည်းများတွင် ကိရိယာများ၊ မှိုများ စသည်တို့ ပါဝင်ပါသည်။ ရွှေနှင့် အရောင် အလှဆင်ခြင်း အကာအကွယ်အပေါ်ယံပိုင်း၊ ရုပ်ရှင်စနစ်များတွင် TiN၊ ZrN၊ TiAIN၊ TiAINC၊ TC၊ TiNC၊ DLC၊ ZrCN၊ အရောင်စနစ်များ ပါဝင်သည်။ သေနတ် အနက်ရောင်၊ အနက်ရောင်၊ ခရမ်းရောင်၊ အညို၊ အပြာ အစိမ်းရောင် မီးခိုးရောင် စသဖြင့်
များစွာသော arc အိုင်းယွန်းcoating တွင် ကျယ်ပြန့်သောအသုံးချမှုများနှင့် ခိုင်မာသောလက်တွေ့လုပ်ဆောင်မှုရှိပြီး အထူးသဖြင့် ဖြတ်တောက်ခြင်းကိရိယာများ၊ မှိုများနှင့် သံမဏိပြားများကဲ့သို့သော ပစ္စည်းများ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အလှဆင်ခြင်းနှင့် ဝတ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်ရှိသော မာကျောသောဖလင်အလွှာများကို အုပ်ခြင်းတွင်ဖြစ်သည်။
စာတိုက်အချိန်- သြဂုတ်-၁၇-၂၀၂၃