उपकरणों की यह श्रृंखला कोटिंग सामग्री को नैनोमीटर आकार के कणों में बदलने के लिए मैग्नेट्रॉन लक्ष्यों का उपयोग करती है, जिन्हें सब्सट्रेट की सतह पर जमा करके पतली फिल्म बनाई जाती है। लुढ़की हुई फिल्म को वैक्यूम चैंबर में रखा जाता है। विद्युत चालित घुमावदार संरचना के माध्यम से, एक छोर फिल्म को प्राप्त करता है और दूसरा छोर फिल्म को डालता है। यह लक्ष्य क्षेत्र से गुजरता रहता है और एक सघन फिल्म बनाने के लिए लक्ष्य कणों को प्राप्त करता है।
विशेषता:
1. कम तापमान वाली फिल्म बनाना। तापमान का फिल्म पर बहुत कम प्रभाव पड़ता है और इससे विरूपण नहीं होगा। यह PET, PI और अन्य बेस मटेरियल कॉइल फिल्मों के लिए उपयुक्त है।
2. फिल्म की मोटाई को डिज़ाइन किया जा सकता है। प्रक्रिया समायोजन द्वारा पतली या मोटी कोटिंग्स को डिज़ाइन और जमा किया जा सकता है।
3. मल्टीपल टारगेट लोकेशन डिज़ाइन, लचीली प्रक्रिया। पूरी मशीन को आठ लक्ष्यों से सुसज्जित किया जा सकता है, जिनका उपयोग या तो साधारण धातु लक्ष्य या यौगिक और ऑक्साइड लक्ष्य के रूप में किया जा सकता है। इसका उपयोग एकल संरचना वाली एकल-परत फ़िल्म या मिश्रित संरचना वाली बहु-परत फ़िल्म तैयार करने के लिए किया जा सकता है। प्रक्रिया बहुत लचीली है।
उपकरण विद्युत चुम्बकीय परिरक्षण फिल्म, लचीले सर्किट बोर्ड कोटिंग, विभिन्न ढांकता हुआ फिल्में, बहु-परत एआर एंटीरफ्लेक्शन फिल्म, एचआर उच्च एंटीरफ्लेक्शन फिल्म, रंग फिल्म, आदि तैयार कर सकते हैं। उपकरण में अनुप्रयोगों की एक बहुत विस्तृत श्रृंखला है, और एकल-परत फिल्म जमाव एक बार की फिल्म जमाव द्वारा पूरा किया जा सकता है।
यह उपकरण सरल धातु लक्ष्यों जैसे Al, Cr, Cu, Fe, Ni, SUS, TiAl, आदि, या मिश्रित लक्ष्यों जैसे SiO2, Si3N4, Al2O3, SnO2, ZnO, Ta2O5, ITO, AZO, आदि को अपना सकता है।
उपकरण आकार में छोटा है, संरचना डिजाइन में कॉम्पैक्ट है, फर्श क्षेत्र में छोटा है, ऊर्जा की खपत में कम है, और समायोजन में लचीला है। यह प्रक्रिया अनुसंधान और विकास या छोटे बैच बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए बहुत उपयुक्त है।