Võrreldes teiste katmistehnoloogiatega on pihustuskatmisel järgmised olulised omadused: tööparameetritel on suur dünaamiline reguleerimisulatus, katte sadestamise kiirust ja paksust (kattepinna olekut) on lihtne reguleerida ning pihustussihtmärgi geomeetrial puuduvad konstruktsioonipiirangud, et tagada katte ühtlus; kilekihil ei ole tilkade osakeste probleemi: peaaegu kõiki metalle, sulameid ja keraamilisi materjale saab muuta sihtmaterjalideks; alalisvoolu- või raadiosagedusliku pihustamise abil saab luua täpsete ja konstantsete proportsioonidega puhtaid metall- või sulamkatteid ning gaasi osalusega metallreaktsioonikilesid, mis vastavad kilede mitmekesistele ja ülitäpsetele nõuetele. Pihustuskatmise tüüpilised protsessiparameetrid on: töörõhk on 0,1 Pa; sihtpinge on 300–700 V ja sihtvõimsuse tihedus on 1–36 W/cm2. Pihustamise eripärad on:
(1) Suur sadestumiskiirus. Elektroodide kasutamise tõttu on võimalik saavutada väga suuri sihtmärgi pommitamise ioonvoolusid, mistõttu on sihtmärgi pinnal pihustussöövituskiirus ja aluspinna pinnale kile sadestumiskiirus kõrged.
(2) Suur energiatõhusus. Madala energiaga elektronide ja gaasi aatomite kokkupõrke tõenäosus on suur, mistõttu gaasi ionisatsioonikiirus suureneb oluliselt. Vastavalt väheneb oluliselt ka tühjendusgaasi (või plasma) impedants. Seega, võrreldes alalisvoolu kahepooluselise pihustamisega, isegi kui töörõhku vähendatakse 1–10 Pa-lt 10⁻²–10⁻¹ Pa-ni, väheneb pihustuspinge mitmelt tuhandelt voltilt sadadele voltidele ning pihustustõhusus ja sadestumiskiirus suurenevad suurusjärkude võrra.
(3) Madala energiaga pihustamine. Madala katoodpinge tõttu, mis rakendatakse sihtmärgile, seob plasma katoodi lähedal asuvas ruumis magnetvälja abil, mis takistab suure energiaga laetud osakeste langemist aluspinna küljele. Seetõttu on laetud osakeste pommitamise tagajärjel aluspinnale, näiteks pooljuhtseadistele, tekkiv kahju väiksem kui teiste pihustamismeetodite puhul.
– Selle artikli avaldasvaakumkatmismasinate tootjaGuangdongi Zhenhua.
Postituse aeg: 08.09.2023