Awọn ẹya ara ẹrọ pataki ti a bo RF Sputtering

A. Ìwọ̀n ìfúnpọ̀ gíga. Fún àpẹẹrẹ, nígbà tí a bá ń fi SiO2 ṣe ìfúnpọ̀, ìwọ̀n ìfúnpọ̀ le tó 200nm/min, nígbà gbogbo ó lè tó 10~100nm/min.

Àti pé ìwọ̀n ìṣẹ̀dá fíìmù náà dọ́gba tààrà sí agbára ìgbóhùnsáfẹ́fẹ́ gíga.

B. Ìsopọ̀ láàárín fíìmù náà àti ohun èlò náà tóbi ju ìfipamọ́ afẹ́fẹ́ vacuum ti fẹlẹfẹlẹ fíìmù náà lọ. Èyí jẹ́ nítorí agbára kinetic atom atom tó ṣẹlẹ̀ ní ìwọ̀n 10eV, àti pé nínú ohun èlò plasma náà, a ó máa fọ sputtering tó lágbára, èyí tó máa mú kí ihò díẹ̀ nínú ohun èlò náà dínkù, ìwẹ̀nùmọ́ gíga àti ìpele awọ ara.

C. Agbára ìyípadà gbogbo ohun èlò awo náà, yálà irin tàbí èyí tí kìí ṣe irin tàbí àwọn ohun èlò mìíràn, ó fẹ́rẹ̀ẹ́ jẹ́ pé gbogbo ohun èlò ni a lè ṣe sínú àwo yípo, a lè lò ó fún ìgbà pípẹ́.

D. Àwọn ohun tí a nílò fún ìrísí ohun èlò náà kò gba àfiyèsí. Ojú ilẹ̀ tí kò dọ́gba tàbí wíwà àwọn àlàfo kékeré tí ó ní ìwọ̀n tí kò tó 1mm ni a lè fi sínú fíìmù kan.

Lílo ìbòrí ìgbóná rédíò Dá lórí àwọn ànímọ́ tí a kọ sí òkè yìí, ìbòrí tí a fi sínú ìgbóná rédíò frequency sputtering ni a ń lò jù lọ lọ́wọ́lọ́wọ́, pàápàá jùlọ nínú ìpèsè àwọn iyika tí a ti so pọ̀ mọ́ ara wọn àti fíìmù iṣẹ́ dielectric ni a ń lò ní pàtàkì. Fún àpẹẹrẹ, àwọn ohun èlò tí kì í ṣe adarí àti semiconductor tí a fi sínú RF sputtering, títí kan àwọn èròjà: semiconductor Si àti Ge, àwọn ohun èlò ìdàpọ̀ GsAs, GaSb, GaN, InSb, InN, AIN, CaSe, Cds, PbTe, àwọn semiconductor oníwọ̀n otútù gíga SiC, àwọn èròjà ferroelectric B14T3O12, àwọn ohun èlò ohun èlò gasification In2Os, SiO2, Al203, Y203, TiO2, ZiO2, SnO2, PtO, HfO2, Bi2O2, ZnO2, CdO, gilasi, ike, àti bẹ́ẹ̀ bẹ́ẹ̀ lọ.

Tí a bá gbé ọ̀pọ̀lọpọ̀ ibi-afẹ́fẹ́ sí yàrá ìbòrí, ó tún ṣeé ṣe láti parí ìmúrasílẹ̀ fíìmù onípele púpọ̀ nínú yàrá kan náà láìpa fíìmù ìbòrí run ní àkókò kan náà. Ẹ̀rọ ìgbóhùnsáfẹ́fẹ́ rédíò onípele tí a yà sọ́tọ̀ fún gbígbé àwọn òrùka inú àti òde fún ìmúrasílẹ̀ ìbòrí disulfide jẹ́ àpẹẹrẹ ohun èlò tí a lò nínú ìgbóhùnsáfẹ́fẹ́ orísun rédíò ti 11.36MHz, folti afojusun ti 2 ~ 3kV, agbára àpapọ̀ ti 12kW, ìwọ̀n iṣẹ́ ti agbára induction oofa ti 0.008T, ààlà ti vacuum chamber vacuum jẹ́ 6.5X10-4Pa. Ìwọ̀n ìfipamọ́ gíga àti kékeré. Jù bẹ́ẹ̀ lọ, agbára RF sputtering tí ó ń lò kéré, agbára púpọ̀ sì ń yípadà sí ooru, èyí tí ó ń pàdánù láti inú omi ìtútù ti ibi-afẹ́fẹ́ náà.

–A gbé àpilẹ̀kọ yìí jáde láti ọwọ́ẹrọ fifọ ideri igbaleGuangdong Zhenhua