A. Kadar percikan yang tinggi. Contohnya, apabila percikan SiO2, kadar pemendapan boleh sehingga 200nm/min, biasanya sehingga 10~100nm/min.
Dan kadar pembentukan filem adalah berkadar terus dengan kuasa frekuensi tinggi.
B. Lekatan antara filem dan substrat adalah lebih besar daripada pemendapan wap vakum lapisan filem. Ini disebabkan oleh tenaga kinetik purata atom insiden ke tapak kepada badan kira-kira 10eV, dan substrat plasma akan tertakluk kepada pembersihan percikan yang ketat yang menghasilkan kurang lubang kecil dalam lapisan membran, ketulenan tinggi, lapisan membran yang padat.
C. Kebolehsuaian luas bahan membran, sama ada logam atau bukan logam atau sebatian, hampir semua bahan boleh disediakan menjadi plat bulat, boleh digunakan untuk jangka masa yang lama.
D. Keperluan untuk bentuk substrat tidaklah terlalu mendesak. Permukaan substrat yang tidak rata atau kewujudan celah kecil dengan lebar kurang daripada 1mm juga boleh terpercik ke dalam filem.
Penggunaan salutan percikan frekuensi radio Berdasarkan ciri-ciri di atas, salutan yang dimendapkan oleh percikan frekuensi radio kini lebih banyak digunakan, terutamanya dalam penyediaan litar bersepadu dan filem fungsi dielektrik sangat banyak digunakan. Contohnya, bahan bukan konduktor dan semikonduktor yang dimendapkan oleh percikan RF, termasuk unsur: semikonduktor Si dan Ge, bahan sebatian GsAs, GaSb, GaN, InSb, InN, AIN, CaSe, Cds, PbTe, semikonduktor suhu tinggi SiC, sebatian feroelektrik B14T3O12, bahan objek pengegasan In2Os, SiO2, Al203, Y203, TiO2, ZiO2, SnO2, PtO, HfO2, Bi2O2, ZnO2, CdO, kaca, plastik, dll.
Jika beberapa sasaran diletakkan di dalam ruang salutan, penyediaan filem berbilang lapisan juga boleh dilakukan dalam ruang yang sama tanpa memusnahkan vakum pada satu masa. Peranti frekuensi radio elektrod khusus untuk galas cincin dalam dan luar untuk penyediaan salutan disulfida adalah contoh peralatan yang digunakan dalam frekuensi sumber frekuensi radio 11.36MHz, voltan sasaran 2 ~ 3kV, jumlah kuasa 12kW, julat kerja kekuatan aruhan magnet 0.008T, had vakum ruang vakum ialah 6.5X10-4Pa. Kadar pemendapan tinggi dan rendah. Tambahan pula, kecekapan penggunaan kuasa percikan RF adalah rendah, dan sejumlah besar kuasa ditukar menjadi haba, yang hilang daripada air penyejuk sasaran.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 21 Dis-2023