A. Висока швидкість розпилення. Наприклад, при розпиленні SiO2 швидкість осадження може сягати 200 нм/хв, зазвичай до 10~100 нм/хв.
А швидкість утворення плівки прямо пропорційна потужності високої частоти.
B. Адгезія між плівкою та підкладкою більша, ніж при вакуумному осадженні плівкового шару. Це пов'язано з тим, що середня кінетична енергія падаючих атомів від основи до тіла становить близько 10 еВ, і в плазмі підкладка піддається ретельному розпиленню, що призводить до зменшення кількості отворів у мембранному шарі, високої чистоти та щільності мембранного шару.
C. Широка адаптивність мембранного матеріалу, як металевого, так і неметалевого, або сполук, майже всі матеріали можна підготувати у вигляді круглої пластини, яку можна використовувати протягом тривалого часу.
D. Вимоги до форми підкладки не є високими. Нерівна поверхня підкладки або наявність невеликих щілин шириною менше 1 мм також можуть бути напилені в плівку.
Застосування покриття, отриманого методом радіочастотного напилення. Виходячи з вищезазначених характеристик, покриття, нанесене методом радіочастотного напилення, в даний час використовується все ширше, особливо у виробництві інтегральних схем, а плівка з діелектричною функцією особливо широко використовується. Наприклад, непровідні та напівпровідникові матеріали, нанесені методом радіочастотного напилення, включають такі елементи: напівпровідниковий Si та Ge, складні матеріали GsAs, GaSb, GaN, InSb, InN, AIN, CaSe, Cds, PbTe, високотемпературні напівпровідники SiC, сегнетоелектричні сполуки B14T3O12, матеріали для газифікації In2Os, SiO2, Al2O3, Y2O3, TiO2, ZiO2, SnO2, PtO, HfO2, Bi2O2, ZnO2, CdO, скло, пластик тощо.
Якщо в камері покриття розміщено кілька мішеней, також можна завершити підготовку багатошарової плівки в одній камері, не руйнуючи вакуум одночасно. Спеціальний електродний радіочастотний пристрій для внутрішнього та зовнішнього кілець підшипників для підготовки дисульфідного покриття є прикладом обладнання, що використовується в радіочастотній частоті 11,36 МГц, напругі мішені 2 ~ 3 кВ, загальній потужності 12 кВт, робочому діапазоні сили магнітної індукції 0,008 Тл, межі вакууму вакуумної камери 6,5X10⁻⁴ Па. Висока та низька швидкість осадження. Крім того, ефективність використання потужності радіочастотного розпилення низька, і велика кількість енергії перетворюється на тепло, яке втрачається з охолоджувальної води мішені.
–Цю статтю опубліковановиробник вакуумних машин для покриттяГуандун Чженьхуа
Час публікації: 21 грудня 2023 р.