A. Visoka hitrost razprševanja. Na primer, pri razprševanju SiO2 je lahko hitrost nanašanja do 200 nm/min, običajno do 10~100 nm/min.
In hitrost nastajanja filma je neposredno sorazmerna z visokofrekvenčno močjo.
B. Adhezija med filmom in substratom je večja kot pri vakuumskem nanašanju s paro. To je posledica povprečne kinetične energije vpadnega atoma med osnovo in telesom približno 10 eV, zato je plazemski substrat podvržen strogemu čiščenju z razprševanjem, kar ima za posledico manj luknjic v membranski plasti, visoko čistost in gostoto membranske plasti.
C. Široka prilagodljivost membranskega materiala, bodisi kovinskega ali nekovinskega ali spojinskega, skoraj vse materiale je mogoče pripraviti v okroglo ploščo, ki se lahko uporablja dolgo časa.
D. Zahteve glede oblike substrata niso zahtevne. Neenakomerna površina substrata ali prisotnost majhnih rež, širine manj kot 1 mm, se lahko napršijo v film.
Uporaba prevleke z radiofrekvenčnim naprševanjem Na podlagi zgornjih značilnosti se prevleka, nanesena z radiofrekvenčnim naprševanjem, trenutno bolj pogosto uporablja, zlasti pri izdelavi integriranih vezij, pri čemer se dielektrična funkcija filma še posebej pogosto uporablja. Na primer, neprevodniški in polprevodniški materiali, naneseni z radiofrekvenčnim naprševanjem, vključujejo elemente: polprevodniški Si in Ge, sestavljeni materiali GsAs, GaSb, GaN, InSb, InN, AIN, CaSe, Cds, PbTe, visokotemperaturni polprevodniki SiC, feroelektrične spojine B14T3O12, materiali za uplinjanje In2Os, SiO2, Al203, Y203, TiO2, ZiO2, SnO2, PtO, HfO2, Bi2O2, ZnO2, CdO, steklo, plastika itd.
Če je v komori za nanos premaza nameščenih več tarč, je mogoče v isti komori dokončati tudi pripravo večplastne folije, ne da bi hkrati uničili vakuum. Namenska elektrodna radiofrekvenčna naprava za notranje in zunanje obroče ležajev za pripravo disulfidnega premaza je primer opreme, ki se uporablja pri frekvenci radiofrekvenčnega vira 11,36 MHz, napetosti tarče 2 ~ 3 kV, skupni moči 12 kW, delovnem območju magnetne indukcijske jakosti 0,008 T, meja vakuuma v vakuumski komori pa je 6,5 X 10⁻⁴ Pa. Visoka in nizka hitrost nanašanja. Poleg tega je učinkovitost izrabe energije RF razprševanja nizka in velika količina energije se pretvori v toploto, ki se izgubi zaradi hladilne vode tarče.
–Ta članek je objavilproizvajalec strojev za vakuumsko lakiranjeGuangdong Zhenhua
Čas objave: 21. dec. 2023