ကျွန်ုပ်တို့အားလုံးသိကြသည့်အတိုင်း၊ semiconductor ၏အဓိပ္ပာယ်ဖွင့်ဆိုချက်မှာ ခြောက်သွေ့သော conductor များနှင့် insulator များအကြား conductivity ရှိပြီး၊ သတ္တုနှင့် insulator အကြား resistivity သည် အခန်းအပူချိန်တွင် 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm အတွင်းတွင်ရှိသည်။ မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း၊ အဓိက semiconductor ကုမ္ပဏီများတွင် vacuum semiconductor coating သည် ၎င်း၏အဆင့်အတန်းသည် ပိုမိုမြင့်မားလာသည်မှာ ထင်ရှားပြီး၊ အထူးသဖြင့် magnetoelectric conversion devices များ၊ light-emitting devices များနှင့် အခြားဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးလုပ်ငန်းများအတွက် ကြီးမားသော integrated system circuit နည်းပညာသုတေသနနည်းလမ်းများတွင်ဖြစ်သည်။ Vacuum semiconductor coating သည် အရေးကြီးသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်သည်။
တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းများကို ၎င်းတို့၏ ပင်ကိုယ်ဝိသေသလက္ခဏာများ၊ အပူချိန်နှင့် မသန့်စင်မှုပါဝင်မှုတို့ဖြင့် သွင်ပြင်လက္ခဏာပြသည်။ Vacuum တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းများကို အဓိကအားဖြင့် ၎င်း၏ပါဝင်ဒြပ်ပေါင်းများဖြင့် ခွဲခြားထားသည်။ အားလုံးနီးပါးသည် ဘိုရွန်၊ ကာဗွန်၊ ဆီလီကွန်၊ ဂျာမေနီယမ်၊ အာဆင်းနစ်၊ အန်တီမိုနီ၊ တယ်လူရီယမ်၊ အိုင်အိုဒင်း စသည်တို့အပေါ် အခြေခံထားပြီး GaP၊ GaAs၊ lnSb စသည်တို့ အနည်းငယ်သာပါဝင်သည်။ FeO၊ Fe₂O₃၊ MnO၊ Cr₂O₃၊ Cu₂O စသည်တို့ကဲ့သို့သော အောက်ဆိုဒ်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအချို့လည်း ရှိပါသည်။
ဖုန်စုပ်အငွေ့ပျံခြင်း၊ sputtering coating၊ ion coating နှင့် အခြားကိရိယာများသည် ဖုန်စုပ် semiconductor coating ကို ပြုလုပ်နိုင်သည်။ ဤ coating ကိရိယာများအားလုံးသည် ၎င်းတို့၏ အလုပ်လုပ်ပုံ အခြေခံမူ မတူညီကြသော်လည်း ၎င်းတို့အားလုံးသည် semiconductor ပစ္စည်း coating ပစ္စည်းကို substrate ပေါ်တွင် စုပုံစေပြီး substrate ၏ ပစ္စည်းအနေဖြင့် semiconductor ဖြစ်နိုင်သည်ဖြစ်စေ မဖြစ်နိုင်သည်ဖြစ်စေ လိုအပ်ချက်မရှိပါ။ ထို့အပြင်၊ မတူညီသော လျှပ်စစ်နှင့် optical ဂုဏ်သတ္တိများရှိသော coating များကို မသန့်စင်မှုပျံ့နှံ့ခြင်းနှင့် semiconductor substrate ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ion ထည့်သွင်းခြင်းဖြင့် ပြင်ဆင်နိုင်သည်။ ရရှိလာသော အလွှာပါးကို ယေဘုယျအားဖြင့် semiconductor coating အဖြစ်လည်း လုပ်ဆောင်နိုင်သည်။
active သို့မဟုတ် passive device များအတွက်ဖြစ်စေ အီလက်ထရွန်းနစ်ပစ္စည်းများတွင် vacuum semiconductor coating သည် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အရာတစ်ခုဖြစ်သည်။ vacuum semiconductor coating နည်းပညာ စဉ်ဆက်မပြတ်တိုးတက်နေမှုနှင့်အတူ film စွမ်းဆောင်ရည်ကို တိကျစွာထိန်းချုပ်နိုင်လာပါသည်။
မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း amorphous coating နှင့် polycrystalline coating တို့သည် photoconductive devices များ၊ coated field-effect tubes များနှင့် high-efficiency solar cells များ ထုတ်လုပ်ရာတွင် လျင်မြန်စွာ တိုးတက်လာခဲ့သည်။ ထို့အပြင် vacuum semiconductor coating နှင့် thin film of sensors များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာခြင်းကြောင့် ပစ္စည်းရွေးချယ်မှု အခက်အခဲကိုလည်း သိသိသာသာ လျှော့ချပေးပြီး ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်ကို တဖြည်းဖြည်း ရိုးရှင်းစေခဲ့သည်။ Vacuum semiconductor coating ပစ္စည်းကိရိယာများသည် semiconductor applications များအတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော አዲስ ဖြစ်လာခဲ့သည်။ ဤပစ္စည်းကိရိယာများကို ကင်မရာ devices များ၊ solar cells များ၊ coated transistors များ၊ field emission၊ cathode-light၊ electron emission၊ thin film sensing element များ စသည်တို့၏ semiconductor coating အတွက် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြုကြသည်။
မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတာရင်း အပေါ်ယံလွှာ လိုင်းကို အလိုအလျောက် ထိန်းချုပ်မှုစနစ်၊ အဆင်ပြေပြီး အလိုလိုသိနိုင်သော ထိတွေ့မျက်နှာပြင် လူသား-စက် မျက်နှာပြင်ဖြင့် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။ ထုတ်လုပ်မှုလိုင်း အစိတ်အပိုင်းအားလုံး၏ လည်ပတ်မှုအခြေအနေကို အပြည့်အဝ စောင့်ကြည့်နိုင်ရန်၊ လုပ်ငန်းစဉ် ကန့်သတ်ချက်များ သတ်မှတ်ခြင်း၊ လည်ပတ်မှု အကာအကွယ်နှင့် အချက်ပေးလုပ်ဆောင်ချက်များကို အပြည့်အဝ စောင့်ကြည့်နိုင်ရန် လိုင်းကို လုပ်ဆောင်ချက် မီနူးအပြည့်အစုံဖြင့် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။ လျှပ်စစ်ထိန်းချုပ်မှုစနစ်တစ်ခုလုံးသည် ဘေးကင်းလုံခြုံပြီး ယုံကြည်စိတ်ချရပြီး တည်ငြိမ်သည်။ အပေါ်နှင့်အောက် နှစ်ဖက်သုံး မဂ္ဂနက်ထရွန် စပတာရင်း ပစ်မှတ် သို့မဟုတ် တစ်ဖက်သုံး အပေါ်ယံလွှာစနစ် တပ်ဆင်ထားသည်။
ဤပစ္စည်းကို အဓိကအားဖြင့် ကြွေဆားကစ်ဘုတ်များ၊ ချစ်ပ်မြင့်မားသောဗို့အား capacitor များနှင့် အခြားအလွှာအပေါ်ယံလွှာများတွင် အသုံးပြုပြီး အဓိကအသုံးချသည့်နေရာများမှာ အီလက်ထရွန်းနစ်ဆားကစ်ဘုတ်များဖြစ်သည်။
ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၂ ခုနှစ်၊ နိုဝင်ဘာလ ၇ ရက်