Como todos sabemos, a definição de semicondutor é que ele possui condutividade entre a de um condutor seco e a de um isolante, e resistividade entre a de um metal e a de um isolante, geralmente na faixa de 1 mΩ-cm a 1 GΩ-cm à temperatura ambiente. Nos últimos anos, o revestimento a vácuo de semicondutores tem ganhado cada vez mais importância nas principais empresas do setor, especialmente em pesquisas tecnológicas para o desenvolvimento de circuitos integrados de grande escala, dispositivos de conversão magnetoelétrica, dispositivos emissores de luz e outras aplicações. O revestimento a vácuo de semicondutores desempenha um papel fundamental.
Os semicondutores são caracterizados por suas propriedades intrínsecas, temperatura e concentração de impurezas. Os materiais de revestimento semicondutor a vácuo se distinguem principalmente por seus compostos constituintes. Quase todos são à base de boro, carbono, silício, germânio, arsênio, antimônio, telúrio, iodo, etc., e alguns, em menor número, GaP, GaAs, InSb, etc. Existem também alguns semicondutores de óxido, como FeO, Fe₂O₃, MnO, Cr₂O₃, Cu₂O, etc.
A evaporação a vácuo, a deposição por pulverização catódica, a deposição iônica e outros equipamentos podem realizar revestimentos semicondutores a vácuo. Esses equipamentos de revestimento diferem em seus princípios de funcionamento, mas todos depositam o material semicondutor sobre o substrato, independentemente do material do substrato, que pode ser semicondutor ou não. Além disso, revestimentos com diferentes propriedades elétricas e ópticas podem ser preparados por difusão de impurezas e implantação iônica na superfície do substrato semicondutor. A fina camada resultante também pode ser processada como um revestimento semicondutor em geral.
O revestimento semicondutor a vácuo é indispensável na eletrônica, tanto para dispositivos ativos quanto passivos. Com o avanço contínuo da tecnologia de revestimento semicondutor a vácuo, o controle preciso do desempenho do filme tornou-se possível.
Nos últimos anos, o revestimento amorfo e o revestimento policristalino têm apresentado avanços rápidos na fabricação de dispositivos fotocondutores, tubos de efeito de campo revestidos e células solares de alta eficiência. Além disso, o desenvolvimento do revestimento semicondutor a vácuo e da deposição de filmes finos em sensores reduziu substancialmente a dificuldade de seleção de materiais e simplificou gradualmente o processo de fabricação. Os equipamentos de revestimento semicondutor a vácuo tornaram-se indispensáveis para aplicações em semicondutores. São amplamente utilizados para o revestimento de semicondutores em dispositivos de câmeras, células solares, transistores revestidos, emissores de campo, emissores de luz catódica, emissores de elétrons, elementos sensores de filme fino, entre outros.
A linha de revestimento por pulverização catódica magnetron foi projetada com um sistema de controle totalmente automático e uma interface homem-máquina intuitiva e prática com tela sensível ao toque. A linha possui um menu de funções completo que permite o monitoramento total do status operacional de todos os componentes da linha de produção, configuração de parâmetros de processo, proteção operacional e funções de alarme. Todo o sistema de controle elétrico é seguro, confiável e estável. Equipada com alvo de pulverização catódica magnetron de dupla face (superior e inferior) ou sistema de revestimento de face única.
O equipamento é aplicado principalmente em placas de circuito cerâmico, capacitores de alta tensão para chips e outros revestimentos de substrato, sendo suas principais áreas de aplicação as placas de circuito eletrônico.
Data da publicação: 07/11/2022