Как известно, определение полупроводника подразумевает наличие проводимости между сухими проводниками и изоляторами, удельного сопротивления между металлом и изолятором, которое при комнатной температуре обычно находится в диапазоне от 1 мОм·см до 1 ГОм·см. В последние годы вакуумное полупроводниковое покрытие приобретает все большее значение в ведущих полупроводниковых компаниях, особенно в исследованиях и разработках методов создания крупномасштабных интегральных схем, магнитоэлектрических преобразователей, светоизлучающих устройств и других областях. Вакуумное полупроводниковое покрытие играет важную роль.
Полупроводники характеризуются своими внутренними свойствами, температурой и концентрацией примесей. Вакуумные полупроводниковые покрытия различаются друг от друга главным образом по входящим в их состав соединениям. Примерно все они основаны на боре, углероде, кремнии, германии, мышьяке, сурьме, теллуре, йоде и т. д., а также на относительно небольшом количестве GaP, GaAs, lnSb и др. Существуют также некоторые оксидные полупроводники, такие как FeO, Fe₂O₃, MnO, Cr₂O₃, Cu₂O и др.
Вакуумное испарение, магнетронное распыление, ионное напыление и другое оборудование позволяют осуществлять вакуумное нанесение полупроводниковых покрытий. Принцип работы этих устройств различен, но все они обеспечивают осаждение полупроводникового материала на подложку, при этом тип подложки не имеет значения – она может быть полупроводниковой или нет. Кроме того, на поверхности полупроводниковой подложки можно получать покрытия с различными электрическими и оптическими свойствами как путем диффузии примесей, так и путем ионной имплантации. Полученный тонкий слой также может быть обработан как полупроводниковое покрытие.
Вакуумное полупроводниковое нанесение покрытий является неотъемлемой частью электроники, будь то активные или пассивные устройства. Благодаря постоянному совершенствованию технологии вакуумного полупроводникового нанесения покрытий стало возможным точное управление характеристиками пленок.
В последние годы аморфные и поликристаллические покрытия получили стремительное развитие в производстве фотопроводящих устройств, покрытых полевых транзисторов и высокоэффективных солнечных элементов. Кроме того, благодаря развитию вакуумного полупроводникового нанесения покрытий и тонкопленочных датчиков, что также существенно снижает сложность выбора материалов и постепенно упрощает производственный процесс, вакуумное оборудование для нанесения полупроводниковых покрытий стало необходимым элементом в полупроводниковой промышленности. Это оборудование широко используется для нанесения полупроводниковых покрытий на камерные устройства, солнечные элементы, покрытые транзисторы, полевые эмиссионные элементы, катодные светодиоды, элементы электронной эмиссии, тонкопленочные сенсорные элементы и т.д.
Линия магнетронного распыления оснащена полностью автоматической системой управления и удобным, интуитивно понятным сенсорным человеко-машинным интерфейсом. Линия имеет полное функциональное меню, обеспечивающее полный мониторинг состояния всех компонентов производственной линии, настройку параметров процесса, защиту от сбоев и функции сигнализации. Вся система электрического управления безопасна, надежна и стабильна. Линия может быть оснащена верхним и нижним двухсторонними мишенями для магнетронного распыления или односторонней системой нанесения покрытия.
Данное оборудование в основном применяется для нанесения покрытий на керамические печатные платы, высоковольтные конденсаторы и другие подложки, основная область применения – электронные печатные платы.
Дата публикации: 07.11.2022