Như chúng ta đã biết, định nghĩa của chất bán dẫn là chất có độ dẫn điện nằm giữa chất dẫn điện khô và chất cách điện, điện trở suất nằm giữa kim loại và chất cách điện, thường ở nhiệt độ phòng nằm trong khoảng 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm. Trong những năm gần đây, lớp phủ bán dẫn chân không tại các công ty bán dẫn lớn cho thấy vị thế của nó ngày càng được nâng cao, đặc biệt là trong các phương pháp nghiên cứu công nghệ phát triển mạch hệ thống tích hợp quy mô lớn, từ các thiết bị chuyển đổi từ điện, thiết bị phát quang và các công việc phát triển khác. Lớp phủ bán dẫn chân không đóng vai trò quan trọng.
Chất bán dẫn được đặc trưng bởi các đặc tính nội tại, nhiệt độ và nồng độ tạp chất. Vật liệu phủ bán dẫn chân không được phân biệt với nhau chủ yếu bởi các hợp chất cấu thành. Hầu hết đều dựa trên boron, carbon, silicon, germanium, arsenic, antimony, tellurium, iodine, v.v., và một số ít hơn như GaP, GaAs, lnSb, v.v. Cũng có một số chất bán dẫn oxit, chẳng hạn như FeO, Fe₂O₃, MnO, Cr₂O₃, Cu₂O, v.v.
Quá trình phủ bán dẫn trong chân không có thể được thực hiện bằng các thiết bị như bay hơi chân không, phủ lắng đọng phún xạ, phủ ion và các thiết bị khác. Các thiết bị phủ này có nguyên lý hoạt động khác nhau, nhưng tất cả đều tạo ra lớp phủ bán dẫn được lắng đọng trên chất nền, và chất nền không có yêu cầu cụ thể nào, có thể là bán dẫn hoặc không. Ngoài ra, các lớp phủ với các tính chất điện và quang học khác nhau có thể được tạo ra bằng cả phương pháp khuếch tán tạp chất và cấy ion trên bề mặt chất nền bán dẫn trong một phạm vi nhất định. Lớp mỏng thu được cũng có thể được xử lý như một lớp phủ bán dẫn thông thường.
Lớp phủ bán dẫn chân không là một yếu tố không thể thiếu trong ngành điện tử, dù là cho các thiết bị chủ động hay thụ động. Với sự tiến bộ không ngừng của công nghệ phủ bán dẫn chân không, việc kiểm soát chính xác hiệu suất của lớp màng đã trở nên khả thi.
Trong những năm gần đây, lớp phủ vô định hình và lớp phủ đa tinh thể đã có những bước tiến nhanh chóng trong sản xuất các thiết bị quang dẫn, ống hiệu ứng trường phủ và pin mặt trời hiệu suất cao. Ngoài ra, nhờ sự phát triển của lớp phủ bán dẫn chân không và màng mỏng cảm biến, giúp giảm đáng kể khó khăn trong việc lựa chọn vật liệu và đơn giản hóa quy trình sản xuất. Thiết bị phủ bán dẫn chân không đã trở thành một thiết bị cần thiết cho các ứng dụng bán dẫn. Thiết bị này được sử dụng rộng rãi để phủ bán dẫn cho các thiết bị camera, pin mặt trời, transistor phủ, phát xạ trường, ánh sáng catốt, phát xạ điện tử, các phần tử cảm biến màng mỏng, v.v.
Dây chuyền phủ màng bằng phương pháp phún xạ magnetron được thiết kế với hệ thống điều khiển hoàn toàn tự động, giao diện người-máy màn hình cảm ứng tiện lợi và trực quan. Dây chuyền được thiết kế với menu chức năng đầy đủ để giám sát toàn diện trạng thái hoạt động của toàn bộ các bộ phận trên dây chuyền sản xuất, cài đặt thông số quy trình, chức năng bảo vệ và cảnh báo. Toàn bộ hệ thống điều khiển điện an toàn, đáng tin cậy và ổn định. Được trang bị mục tiêu phún xạ magnetron hai mặt trên và dưới hoặc hệ thống phủ một mặt.
Thiết bị này chủ yếu được ứng dụng trong sản xuất mạch in gốm, tụ điện cao áp dạng chip và các lớp phủ nền khác, lĩnh vực ứng dụng chính là mạch in điện tử.
Thời gian đăng bài: 07/11/2022