همانطور که همه می دانیم، تعریف نیمه هادی این است که دارای رسانایی بین هادی ها و عایق های خشک است، مقاومت بین فلز و عایق که معمولاً در دمای اتاق است در محدوده 1 mΩ-cm ~ 1GΩ-cm است. در سال های اخیر، پوشش خلاء نیمه هادی در شرکت های عمده نیمه هادی، واضح است که وضعیت آن به طور فزاینده ای بالا است، به ویژه در برخی از روش های تحقیقاتی فناوری توسعه مدار مجتمع در مقیاس بزرگ به دستگاه های تبدیل مغناطیسی، دستگاه های ساطع نور و سایر کارهای توسعه.پوشش نیمه هادی خلاء نقش مهمی دارد.
نیمه هادی ها با ویژگی های ذاتی، دما و غلظت ناخالصی مشخص می شوند.مواد پوشش نیمه هادی خلاء عمدتاً با ترکیبات تشکیل دهنده آن از یکدیگر متمایز می شوند.تقریباً همه آنها بر پایه بور، کربن، سیلیکون، ژرمانیوم، آرسنیک، آنتیموان، تلوریم، ید و غیره و برخی نسبتاً کمی GaP، GaAs، lnSb و غیره هستند. همچنین برخی از نیمه هادی های اکسیدی مانند FeO، Fe2O3، MnO، Cr2O3، Cu2O و غیره
تبخیر خلاء، پوشش کندوپاش، پوشش یونی و سایر تجهیزات می تواند پوشش نیمه هادی خلاء را انجام دهد.این تجهیزات پوشش همگی در اصل کارشان متفاوت هستند، اما همگی باعث می شوند که مواد پوششی مواد نیمه هادی روی زیرلایه رسوب کنند و به عنوان ماده زیرلایه، هیچ نیازی وجود ندارد، می تواند نیمه هادی باشد یا نباشد.علاوه بر این، پوشش هایی با خواص الکتریکی و نوری مختلف را می توان با انتشار ناخالصی و کاشت یون در سطح زیرلایه نیمه هادی در یک محدوده تهیه کرد.لایه نازک حاصل می تواند به طور کلی به عنوان یک پوشش نیمه هادی نیز پردازش شود.
پوشش نیمه هادی خلاء یک حضور ضروری در الکترونیک است چه برای دستگاه های فعال یا غیرفعال.با پیشرفت مداوم فناوری پوشش نیمه هادی خلاء، کنترل دقیق عملکرد فیلم ممکن شده است.
در سال های اخیر، پوشش آمورف و پوشش پلی کریستالی پیشرفت سریعی در ساخت دستگاه های رسانای نوری، لوله های اثر میدان پوشش داده شده و سلول های خورشیدی با راندمان بالا داشته است.علاوه بر این، به دلیل توسعه پوشش نیمه هادی خلاء و لایه نازک حسگرها، که همچنین به طور قابل توجهی دشواری انتخاب مواد را کاهش می دهد و باعث می شود فرآیند تولید به تدریج ساده شود.تجهیزات پوشش نیمه هادی خلاء به یک حضور ضروری برای کاربردهای نیمه هادی تبدیل شده است.این تجهیزات به طور گسترده ای برای پوشش نیمه هادی دستگاه های دوربین، سلول های خورشیدی، ترانزیستورهای پوشش داده شده، انتشار میدان، نور کاتد، انتشار الکترون، عناصر حسگر فیلم نازک و غیره استفاده می شود.
خط پوشش کندوپاش مگنترون با یک سیستم کنترل کاملا اتوماتیک، یک رابط صفحه نمایش لمسی راحت و بصری انسان و ماشین طراحی شده است.این خط با یک منوی عملکرد کامل برای دستیابی به نظارت کامل بر وضعیت عملکرد برای کل اجزای خط تولید، تنظیم پارامترهای فرآیند، حفاظت از عملیات و عملکردهای هشدار طراحی شده است.کل سیستم کنترل الکتریکی ایمن، قابل اعتماد و پایدار است.مجهز به هدف کندوپاش مگنترون دو طرفه بالا و پایین یا سیستم پوشش یک طرفه.
این تجهیزات عمدتاً برای تخته های مدار سرامیکی، خازن های ولتاژ بالا تراشه و سایر پوشش های بستر اعمال می شود، مناطق اصلی کاربرد تخته های مدار الکترونیکی هستند.
زمان ارسال: نوامبر-07-2022