Wéi mir all wëssen, ass d'Definitioun vum Halbleiter datt et eng Konduktivitéit tëscht dréchene Dirigenten an Isolatoren huet, Resistivitéit tëscht Metall an Isolator, déi normalerweis bei Raumtemperatur ass am Beräich vun 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm.An de leschte Joeren, Vakuum Hallefleitbeschichtung an de grousse Hallefleitfirmen ass et kloer datt säi Status ëmmer méi héich ass, besonnesch an e puer grouss-Skala integréiert System Circuit Entwécklung Technologie Fuerschung Methoden ze magnetoelectric Konversioun Apparater, Liichtjoer emittéiert Apparater an aner Entwécklung Aarbecht.Vakuum Hallefleitbeschichtung huet eng wichteg Roll.
Semiconductors sinn duerch hir intrinsesch Charakteristiken charakteriséiert, Temperatur an Gëftstoffer Konzentratioun.Vakuum Hallefleitbeschichtungsmaterialien ënnerscheeden sech haaptsächlech vu senge Bestanddeeler vuneneen.Ongeféier all baséiert op Bor, Kuelestoff, Silizium, Germanium, Arsen, Antimon, Tellur, Jod, asw., an e puer relativ wéineg GaP, GaAs, lnSb, etc.. MnO, Cr₂O₃, Cu₂O, etc.
Vakuum Verdampfung, Sputterbeschichtung, Ionbeschichtung an aner Ausrüstung kënne Vakuum Hallefleitbeschichtung maachen.Dës Beschichtungsausrüstung sinn all anescht an hirem Aarbechtsprinzip, awer si maachen all d'Hallefuedermaterialbeschichtungsmaterial op de Substrat deposéiert, a wéi d'Material vum Substrat gëtt et keng Fuerderung, et kann e Hallefleeder sinn oder net.Zousätzlech kënnen Beschichtungen mat verschiddenen elektreschen an opteschen Eegeschaften duerch d'Gëftstoffdiffusioun an d'Ionimplantatioun op der Uewerfläch vum Hallefleitsubstrat an enger Rei virbereet ginn.Déi resultéierend dënn Schicht kann och allgemeng als Hallefleitbeschichtung veraarbecht ginn.
Vakuum Hallefleitbeschichtung ass eng onverzichtbar Präsenz an der Elektronik, egal ob et fir aktiv oder passiv Apparater ass.Mat dem kontinuéierleche Fortschrëtt vun der Vakuum Halbleiterbeschichtungstechnologie ass präzis Kontroll vun der Filmleistung méiglech ginn.
An de leschte Joeren hunn amorph Beschichtung a polykristallin Beschichtung séier Fortschrëtter gemaach an der Fabrikatioun vu fotokonduktiven Apparater, Beschichtete Feldeffekt-Réier an héicheffizient Solarzellen.Zousätzlech, wéinst der Entwécklung vu Vakuum Hallefleitbeschichtung an dem dënnen Film vu Sensoren, wat och d'Schwieregkeet vun der Materialauswiel wesentlech reduzéiert an de Fabrikatiounsprozess graduell vereinfacht.Vakuum Hallefleitbeschichtungsausrüstung ass eng noutwendeg Präsenz fir Hallefleitapplikatiounen ginn.D'Ausrüstung ass wäit benotzt fir Hallefleitbeschichtung vu Kameraapparater, Solarzellen, Beschichtete Transistoren, Feldemissioun, Kathodelicht, Elektronemissioun, dënn Film Sensing Elementer, etc.
D'Magnetron Sputtering Beschichtungslinn ass mat engem vollautomatesche Kontrollsystem entworf, e prakteschen an intuitiven Touchscreen Mënsch-Maschinn Interface.D'Linn ass mat engem komplette Funktiounsmenü entworf fir voll Iwwerwaachung vum Operatiounsstatus fir déi ganz Produktiounslinnkomponenten, Prozessparameter-Astellung, Operatiounsschutz an Alarmfunktiounen z'erreechen.De ganze elektresche Kontrollsystem ass sécher, zouverlässeg a stabil.Equipéiert mat ieweschte an ënneschten duebel-dofir Magnetron sputtering Zil- oder Single-dofir Beschichtung System.
D'Ausrüstung gëtt haaptsächlech op Keramik Circuit Boards, Chip High-Volt Kondensatoren an aner Substratbeschichtung applizéiert, d'Haaptapplikatiounsberäicher sinn elektronesch Circuitboards.
Post Zäit: Nov-07-2022