A. He nui te tere o te pupuhi. Hei tauira, ka sputtering SiO2, ka taea e te reiti waipara ki runga ki te 200nm / min, te tikanga ki runga ki te 10 ~ 100nm / min.
A ko te tere o te hanga kiriata he rite tonu ki te kaha auau teitei.
B.Ko te adhesion i waenganui i te kiriata me te tïpako he nui atu i te waipara kohu korehau o te paparanga kiriata. Ko e tika ana ki te turanga ki te tinana o te maiki ngota pūngao kinetic toharite o e pā ana ki 10eV, a i roto i te tïpako plasma ka waiho i raro ki te horoi sputtering tino hua i roto i iti pinholes i roto i te apa membrane, te purenga tiketike, te paparanga membrane mātotoru.
C.Wide urutau o te rauemi membrane, ahakoa konganuku, kore-whakarewa ranei pūhui, tata katoa rauemi e taea te taka ki te pereti a tawhio noa, ka taea te whakamahi mo te wa roa.
D.Ko nga whakaritenga mo te ahua o te tïpako kaore i te tono. Ko te mata koretake o te tïpako me te noho o nga wiwi iti me te whanui iti iho i te 1mm ka taea hoki te pupuhi ki te kiriata.
Te tono o te whakakikorua i te reo irirangi i runga i nga ahuatanga o runga ake nei, ko te paninga kua tukuna e te reo irirangi i te reo irirangi kei te whakamahia nuitia i tenei wa, ina koa i roto i te whakarite i nga iahiko whakauru me te kiriata mahi dielectric e tino whakamahia ana. Hei tauira, ko nga mea kore-whakahaere me nga mea hikoi ka waihohia e te RF sputtering, tae atu ki nga huānga: semiconductor Si me Ge, nga rauemi whakahiato GsAs, GaSb, GaN, InSb, InN, AIN, CaSe, Cds, PbTe, te werawera teitei SiC, ferroelectric pūhui B14T3O3O12, taonga Ino2O2, hauhau. Y203, TiO2, ZiO2, SnO2, PtO, HfO2, Bi2O2, ZnO2, CdO, karaihe, kirihou, etc.
Mena he maha nga whaainga ka whakanohoia ki roto i te ruma whakakikorua, ka taea hoki te whakaoti i te whakarite o te kiriata maha-paparanga i roto i te ruma kotahi me te kore e whakangaro i te korehau i te wa kotahi. Ko te taputapu auau reo irirangi hiko mo te kawe i nga mowhiti o roto me waho mo te whakarite i te paninga disulfide he tauira o nga taputapu e whakamahia ana i roto i te reo irirangi auau puna auau o 11.36MHz, ngaohiko ūnga o 2 ~ 3kV, te katoa o te mana o 12kW, te awhe mahi o te kaha induction autō o 0.008T, te rohe o te korehau ruma ko 6.4Pa. teitei me te iti te reiti waipara. I tua atu, he iti te kaha o te whakamahi mana RF sputtering, a he nui te kaha ka huri ki te wera, ka ngaro mai i te wai whakamatao o te whaainga.
– Ko tenei tuhinga i tukuna ekaihanga miihini whakakikorua korehauGuangdong Zhenhua
Wā tuku: Tihema-21-2023