A. Высокая хуткасць распылення. Напрыклад, пры распыленні SiO2 хуткасць нанясення можа дасягаць 200 нм/мін, звычайна да 10~100 нм/мін.
А хуткасць утварэння плёнкі прама прапарцыйная магутнасці высокай частаты.
B. Адгезія паміж плёнкай і падкладкай вышэйшая, чым пры вакуумным паравым асаджэнні плёнкавага пласта. Гэта звязана з тым, што сярэдняя кінетычная энергія падаючага атама ад асновы да цела складае каля 10 эВ, і ў плазме падкладка падвяргаецца строгай распыляльнай ачыстцы, што прыводзіць да меншай колькасці адтулін у мембранным пласце, высокай чысціні і шчыльнасці мембраннага пласта.
C. Шырокая адаптацыя мембраннага матэрыялу, металічнага, неметалічнага або злучэння, амаль усе матэрыялы можна падрыхтаваць у выглядзе круглай пласціны, якую можна выкарыстоўваць працяглы час.
D. Патрабаванні да формы падкладкі не вельмі высокія. Плёнку можна напыляць на няроўную паверхню падкладкі або наяўнасць невялікіх шчылін шырынёй менш за 1 мм.
Ужыванне пакрыццяў, атрыманых метадам радыёчастотнага распылення Зыходзячы з вышэйзгаданых характарыстык, пакрыцці, нанесеныя метадам радыёчастотнага распылення, у цяперашні час шырока выкарыстоўваюцца, асабліва пры вырабе інтэгральных схем, і асабліва шырока выкарыстоўваюцца дыэлектрычныя плёнкі. Напрыклад, неправодныя і паўправадніковыя матэрыялы, нанесеныя метадам радыёчастотнага распылення, у тым ліку элементы: паўправадніковыя Si і Ge, злучэнні GsAs, GaSb, GaN, InSb, InN, AIN, CaSe, Cds, PbTe, высокатэмпературныя паўправаднікі SiC, сегнетаэлектрычныя злучэнні B14T3O12, матэрыялы для газіфікацыі In2Os, SiO2, Al203, Y203, TiO2, ZiO2, SnO2, PtO, HfO2, Bi2O2, ZnO2, CdO, шкло, пластык і г.д.
Калі ў камеру для нанясення пакрыцця змяшчаюцца некалькі мішэняў, можна выканаць падрыхтоўку шматслаёвай плёнкі ў адной камеры, не разбураючы вакуум адначасова. Прыкладам абсталявання, якое выкарыстоўваецца ў якасці спецыяльнага электрода для падрыхтоўкі ўнутраных і знешніх кольцаў падшыпнікаў для падрыхтоўкі дысульфіднага пакрыцця, з'яўляецца крыніца радыёчастоты з частатой 11,36 МГц, напружанне мішэні 2 ~ 3 кВ, агульная магутнасць 12 кВт, працоўны дыяпазон сілы магнітнай індукцыі 0,008 Тл, мяжа вакууму вакуумнай камеры 6,5X10⁻⁴ Па. Хуткасць нанясення высокая і нізкая. Акрамя таго, эфектыўнасць выкарыстання магутнасці радыёчастотнага распылення нізкая, і вялікая колькасць энергіі пераўтвараецца ў цяпло, якое губляецца з астуджальнай вады мішэні.
–Гэты артыкул апублікаванывытворца вакуумных пакрыццяўГуандун Чжэньхуа
Час публікацыі: 21 снежня 2023 г.