สถานการณ์การใช้งานปัจจุบันของการเคลือบสารกึ่งตัวนำสูญญากาศ

อย่างที่เราทราบกันดีอยู่แล้วว่า คำจำกัดความของสารกึ่งตัวนำคือมีค่าการนำไฟฟ้าระหว่างตัวนำแห้งและฉนวน ค่าความต้านทานระหว่างโลหะและฉนวน ซึ่งโดยปกติจะอยู่ในช่วง 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm ที่อุณหภูมิห้อง ในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมา การเคลือบสารกึ่งตัวนำสูญญากาศในบริษัทผลิตสารกึ่งตัวนำรายใหญ่ เป็นที่ชัดเจนว่าสถานะของการเคลือบสารกึ่งตัวนำสูญญากาศนั้นสูงขึ้นเรื่อยๆ โดยเฉพาะอย่างยิ่งในวิธีการวิจัยเทคโนโลยีการพัฒนาวงจรรวมระบบขนาดใหญ่บางวิธีสำหรับอุปกรณ์แปลงแม่เหล็กไฟฟ้า อุปกรณ์เปล่งแสง และงานพัฒนาอื่นๆ การเคลือบสารกึ่งตัวนำสูญญากาศมีบทบาทสำคัญ

สารกึ่งตัวนำมีลักษณะเฉพาะคือคุณสมบัติเฉพาะ อุณหภูมิ และความเข้มข้นของสิ่งเจือปน วัสดุเคลือบสารกึ่งตัวนำสุญญากาศจะแตกต่างกันโดยหลักๆ แล้วคือสารประกอบที่เป็นองค์ประกอบ โดยส่วนใหญ่แล้วสารเคลือบทั้งหมดจะมีโบรอน คาร์บอน ซิลิกอน เจอร์เมเนียม อาร์เซนิก แอนติโมนี เทลลูเรียม ไอโอดีน เป็นต้น และมี GaP, GaAs, lnSb เป็นต้น ในปริมาณค่อนข้างน้อย นอกจากนี้ยังมีสารกึ่งตัวนำออกไซด์บางชนิด เช่น FeO, Fe2O3, MnO, Cr2O3, Cu2O3 เป็นต้น

การระเหยสูญญากาศ การเคลือบแบบสปัตเตอร์ การเคลือบไอออน และอุปกรณ์อื่นๆ สามารถเคลือบเซมิคอนดักเตอร์แบบสูญญากาศได้ อุปกรณ์เคลือบเหล่านี้ล้วนมีหลักการทำงานที่แตกต่างกัน แต่ทั้งหมดนั้นทำให้วัสดุเคลือบเซมิคอนดักเตอร์เคลือบบนพื้นผิว และเนื่องจากเป็นวัสดุของพื้นผิว จึงไม่มีข้อกำหนดว่าจะต้องเคลือบหรือไม่ นอกจากนี้ การเคลือบที่มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าและทางแสงที่แตกต่างกันสามารถเตรียมได้โดยการแพร่กระจายของสิ่งเจือปนและการฝังไอออนบนพื้นผิวของพื้นผิวเซมิคอนดักเตอร์ในช่วงหนึ่ง ชั้นบางที่ได้นั้นยังสามารถประมวลผลเป็นการเคลือบเซมิคอนดักเตอร์โดยทั่วไปได้

การเคลือบสารกึ่งตัวนำในสุญญากาศเป็นสิ่งที่ขาดไม่ได้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ไม่ว่าจะเป็นอุปกรณ์แอ็คทีฟหรือพาสซีฟ ด้วยความก้าวหน้าอย่างต่อเนื่องของเทคโนโลยีการเคลือบสารกึ่งตัวนำในสุญญากาศ ทำให้สามารถควบคุมประสิทธิภาพของฟิล์มได้อย่างแม่นยำ

ในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมา การเคลือบแบบอะมอร์ฟัสและการเคลือบโพลีคริสตัลไลน์ได้พัฒนาอย่างรวดเร็วในการผลิตอุปกรณ์โฟโตคอนดักเตอร์ หลอดเอฟเฟกต์สนามเคลือบ และเซลล์แสงอาทิตย์ประสิทธิภาพสูง นอกจากนี้ เนื่องมาจากการพัฒนาการเคลือบเซมิคอนดักเตอร์แบบสูญญากาศและฟิล์มบางของเซ็นเซอร์ ซึ่งยังช่วยลดความยากในการเลือกวัสดุได้อย่างมาก และทำให้กระบวนการผลิตง่ายขึ้นทีละน้อย อุปกรณ์เคลือบเซมิคอนดักเตอร์แบบสูญญากาศได้กลายมาเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการใช้งานเซมิคอนดักเตอร์ อุปกรณ์นี้ใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับการเคลือบเซมิคอนดักเตอร์ของอุปกรณ์กล้อง เซลล์แสงอาทิตย์ ทรานซิสเตอร์เคลือบ การปล่อยสนาม แสงแคโทด การปล่อยอิเล็กตรอน องค์ประกอบการตรวจจับฟิล์มบาง ฯลฯ

สายการเคลือบแบบสปัตเตอร์แมกนีตรอนได้รับการออกแบบด้วยระบบควบคุมอัตโนมัติเต็มรูปแบบ อินเทอร์เฟซระหว่างมนุษย์กับเครื่องจักรแบบหน้าจอสัมผัสที่สะดวกสบายและใช้งานง่าย สายนี้ได้รับการออกแบบด้วยเมนูฟังก์ชันที่ครบครันเพื่อให้สามารถตรวจสอบสถานะการทำงานของส่วนประกอบสายการผลิตทั้งหมดได้อย่างสมบูรณ์ การตั้งค่าพารามิเตอร์กระบวนการ การป้องกันการทำงาน และฟังก์ชันการแจ้งเตือน ระบบควบคุมไฟฟ้าทั้งหมดปลอดภัย เชื่อถือได้ และเสถียร ติดตั้งเป้าหมายสปัตเตอร์แมกนีตรอนสองด้านด้านบนและด้านล่างหรือระบบเคลือบด้านเดียว

อุปกรณ์นี้ใช้กับแผงวงจรเซรามิก ตัวเก็บประจุแรงดันสูงแบบชิป และการเคลือบพื้นผิวอื่นๆ โดยพื้นที่การใช้งานหลักๆ คือ แผงวงจรอิเล็กทรอนิกส์