Vacuum ion coating (အိုင်းယွန်း plating ဟုရည်ညွှန်းသည်) သည် 1963 ခုနှစ်တွင် United States မှ Somdia ကုမ္ပဏီ DM Mattox မှအဆိုပြုခဲ့ပြီး 1970s တွင် မျက်နှာပြင်ကုသမှုနည်းပညာအသစ်၏ လျင်မြန်စွာ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာခဲ့သည်။ ၎င်းသည် လေဟာနယ်တစ်ခုတွင် အငွေ့ပျံသည့်ရင်းမြစ် သို့မဟုတ် sputtering ပစ်မှတ်ကို အသုံးပြုခြင်းအား ရည်ညွှန်းပြီး ဖလင်ပစ္စည်းသည် အငွေ့ပျံခြင်း သို့မဟုတ် ရေငွေ့ပျံခြင်း၊ အငွေ့ပျံခြင်း သို့မဟုတ် ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်သည့်နေရာရှိ အမှုန်အမွှားများ၏ အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုမှ သတ္တုအိုင်းယွန်းအဖြစ်သို့ အိုင်ယွန်းသွားစေရန် ရည်ညွှန်းသည်။
အဆိုပါ အမှုန်အမွှားများသည် ပါးလွှာသော ဖလင်ဖြစ်စဉ်ကို ထုတ်ပေးရန်အတွက် လျှပ်စစ်စက်ကွင်း၏ လုပ်ဆောင်ချက်အောက်ရှိ အမှုန်အမွှားများပေါ်တွင် စုပုံထားသည်။
အမျိုးအစားများစွာရှိသော ဖုန်စုပ်စက်အိုင်းယွန်းပလပ်စတစ်ကို အများအားဖြင့် အိုင်းယွန်းအရင်းအမြစ်ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အမြှေးပါးပစ္စည်းအလိုက် အမျိုးအစားနှစ်မျိုးခွဲထားသည်- အငွေ့ပျံခြင်းအရင်းအမြစ်အမျိုးအစား အိုင်းယွန်းပလပ်စတစ်နှင့် sputtering ပစ်မှတ်အမျိုးအစား အိုင်းယွန်းပလပ်စတစ်။ သတ္တုအငွေ့များထုတ်လုပ်ရန် ဖလင်ပစ္စည်းကို အပူပေးခြင်းဖြင့် အငွေ့ပျံသွားကာ ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များထုတ်လုပ်ရန် ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်သည့်ပလာစမာနေရာရှိ သတ္တုအငွေ့များနှင့် စွမ်းအင်မြင့်မားသော ကြားနေအက်တမ်များအဖြစ် တစ်စိတ်တစ်ပိုင်း အိုင်ယွန်အဖြစ်သို့ ကူးပြောင်းသွားပါသည်။ နောက်တစ်ခုကတော့ ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်မှုရဲ့ နေရာကတစ်ဆင့် အမှုန်အမွှားတွေထဲကနေ ထွက်လာတဲ့ sputtering ကို အိုင်းယွန်းများ သို့မဟုတ် စွမ်းအင်မြင့် ကြားနေအက်တမ်များအဖြစ် အိုင်းယွန်းအဖြစ်သို့ ရောက်သွားစေရန်၊ စွမ်းအင်မြင့် နျူထရယ်လ် အက်တမ်များအဖြစ်သို့ ရောက်ရှိစေရန်နှင့် ဖလင်ကို ထုတ်လုပ်ရန် ဖြစ်သည်။
- ဤဆောင်းပါးကိုထုတ်ဝေသည်။ဖုန်စုပ်စက်အလွှာထုတ်လုပ်သူGuangdong Zhenhua
စာတိုက်အချိန်- မတ်လ-၀၇-၂၀၂၄