Ny coating ion banga (antsoina hoe ion plating) dia natolotry ny orinasa Somdia DM Mattox tamin'ny taona 1963 tany Etazonia, izay nahitana fivoarana haingana teknôlôjia fitsaboana ety ambonin'ny tany tamin'ny taona 1970. Izany dia manondro ny fampiasana loharanon'ny etona na lasibatra sputtering ao anaty atmosfera banga mba hahafahan'ny sarimihetsika etona na sputtering, etona na sputtering avy amin'ny ampahany amin'ny poti-javatra ao amin'ny habaka famoahana entona ho ion metaly.
Ireo poti-javatra ireo dia apetraka eo amin'ny substrate eo ambany fiantraikan'ny saha elektrika mba hamoronana dingana sarimihetsika manify.
Karazana maro ny fampiasana "vacuum ion plating", izay matetika araka ny fitaovana ampiasaina amin'ny famokarana ny loharanon'ny ion dia mizara ho karazany roa: ny karazana "etona" sy ny karazana "sputtering ion plating". Ny voalohany dia etona amin'ny fanafanana ny sarimihetsika mba hamokarana etona metaly, ka lasa ionized ampahany ho lasa etona metaly sy atôma tsy miandany angovo avo lenta ao amin'ny plasma famoahana entona, amin'ny alàlan'ny andraikitry ny saha elektrika mba hahatongavana any amin'ny substrate mba hamokarana sarimihetsika manify; ny faharoa dia ny fampiasana ionina angovo avo lenta (ohatra, Ar +) eo amin'ny velaran'ny sarimihetsika mba hamoahana ny poti-javatra amin'ny alàlan'ny "ion" na atôma tsy miandany angovo avo lenta, mba hahatongavana any amin'ny velaran'ny substrate ary hamokatra ny sarimihetsika.
–Navoakan'nympanamboatra milina fanosotra bangaGuangdong Zhenhua
Fotoana fandefasana: 07 Martsa 2024