Vacuüm-ionencoating (ook wel ionenplating genoemd) is een nieuwe oppervlaktebehandelingstechnologie die in 1963 in de Verenigde Staten werd geïntroduceerd door het bedrijf DM Mattox uit Somdia. In de jaren zeventig ontwikkelde deze technologie zich snel. Het betreft het gebruik van een verdampingsbron of sputterdoelwit in een vacuümatmosfeer, waardoor het filmmateriaal verdampt of sputtert. Tijdens deze verdamping of sputtering worden deeltjes in de gasontladingsruimte geïoniseerd tot metaalionen.
Deze deeltjes worden onder invloed van een elektrisch veld op het substraat afgezet om een dunnefilm te vormen.
Vacuüm-ionenplateren kent vele vormen. Afhankelijk van het membraanmateriaal dat als ionenbron wordt gebruikt, worden er doorgaans twee typen onderscheiden: ionenplateren met een verdampingsbron en ionenplateren met een sputterdoelwit. Bij de eerste methode wordt het filmmateriaal verhit om metaaldampen te produceren. Deze dampen worden vervolgens gedeeltelijk geïoniseerd tot metaaldampen en hoogenergetische neutrale atomen in de gasontladingsplasma. Door de werking van een elektrisch veld bereiken deze deeltjes het substraat en vormen zo een dunne film. Bij de tweede methode worden hoogenergetische ionen (bijv. Ar+) op het oppervlak van het filmmateriaal gebombardeerd. De vrijgekomen deeltjes worden door de gasontlading in de ruimte geïoniseerd tot ionen of hoogenergetische neutrale atomen, die vervolgens het substraatoppervlak bereiken en zo een film vormen.
–Dit artikel is gepubliceerd doorfabrikant van vacuümcoatingmachinesGuangdong Zhenhua
Geplaatst op: 7 maart 2024