Pelapisan ion vakum (disebut juga pelapisan ion) adalah teknologi perawatan permukaan baru yang diusulkan oleh perusahaan Somdia DM Mattox di Amerika Serikat pada tahun 1963, dan berkembang pesat pada tahun 1970-an. Teknologi ini mengacu pada penggunaan sumber penguapan atau target sputtering dalam atmosfer vakum sehingga material film menguap atau ter-sputtering, dan sebagian partikel yang menguap atau ter-sputtering tersebut terionisasi menjadi ion logam di ruang pelepasan gas.
Partikel-partikel ini diendapkan pada substrat di bawah pengaruh medan listrik untuk menghasilkan proses lapisan tipis.
Pelapisan ion vakum, yang terdiri dari berbagai jenis, biasanya dibagi menjadi dua jenis berdasarkan bahan membran yang digunakan untuk menghasilkan sumber ion: pelapisan ion tipe sumber penguapan dan pelapisan ion tipe target sputtering. Yang pertama menguapkan bahan film dengan memanaskannya untuk menghasilkan uap logam, sehingga sebagian terionisasi menjadi uap logam dan atom netral berenergi tinggi di ruang plasma lucutan gas, melalui peran medan listrik untuk mencapai substrat dan menghasilkan film tipis; yang kedua menggunakan ion berenergi tinggi (misalnya, Ar+) untuk membombardir permukaan bahan film sehingga partikel-partikel tersebut terionisasi menjadi ion atau atom netral berenergi tinggi melalui ruang lucutan gas, untuk mencapai permukaan substrat dan menghasilkan film.
–Artikel ini dirilis olehprodusen mesin pelapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktu posting: 07-03-2024