Palapis ion vakum (disebat palapis ion) nyaéta palapis anu diusulkeun ku perusahaan Somdia DM Mattox di Amérika Serikat dina taun 1963, dina taun 1970-an parantos aya kamekaran anu gancang tina téknologi perawatan permukaan énggal. Ieu nujul kana panggunaan sumber penguapan atanapi target sputtering dina atmosfir vakum supados bahan pilem nguap atanapi sputtering, penguapan atanapi sputtering kaluar tina sabagian partikel dina rohangan pembuangan gas diionisasi janten ion logam.
Partikel-partikel ieu diendapkeun dina substrat dina pangaruh médan listrik pikeun ngahasilkeun prosés pilem ipis.
Pelapisan ion vakum tina rupa-rupa jinis, biasana numutkeun bahan mémbran pikeun ngahasilkeun sumber ion bakal dibagi kana dua jinis: pelapisan ion jinis sumber penguapan sareng pelapisan ion jinis target sputtering. Anu kahiji diuapkeun ku cara manaskeun bahan pilem pikeun ngahasilkeun uap logam, supados sabagian terionisasi janten uap logam sareng atom nétral énergi tinggi dina rohangan plasma pelepasan gas, ngalangkungan peran médan listrik pikeun ngahontal substrat pikeun ngahasilkeun pilem ipis; anu terakhir nyaéta panggunaan ion énergi tinggi (contona, Ar +) dina permukaan bahan pilem bombardment pikeun ngadamel sputtering kaluar tina partikel ngaliwatan rohangan pelepasan gas terionisasi janten ion atanapi atom nétral énergi tinggi, pikeun ngahontal permukaan substrat sareng ngahasilkeun pilem.
–Tulisan ieu dipedalkeun kuprodusén mesin palapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktos posting: Mar-07-2024