Salutan ion vakum (dirujuk sebagai penyaduran ion) telah dicadangkan oleh syarikat Somdia DM Mattox pada tahun 1963 di Amerika Syarikat, pada tahun 1970-an telah berlaku perkembangan pesat teknologi rawatan permukaan baharu. Ia merujuk kepada penggunaan sumber penyejatan atau sasaran percikan dalam atmosfera vakum supaya bahan filem penyejatan atau percikan, penyejatan atau percikan keluar dari sebahagian zarah dalam ruang pelepasan gas terionisasi menjadi ion logam.
Zarah-zarah ini dimendapkan pada substrat di bawah tindakan medan elektrik untuk menghasilkan proses filem nipis.
Penyaduran ion vakum pelbagai jenis, biasanya mengikut bahan membran untuk menghasilkan sumber ion akan dibahagikan kepada dua jenis: penyaduran ion jenis sumber penyejatan dan penyaduran ion jenis sasaran percikan. Yang pertama disejatkan dengan memanaskan bahan filem untuk menghasilkan wap logam, supaya ia sebahagiannya terionisasi menjadi wap logam dan atom neutral bertenaga tinggi dalam ruang plasma pelepasan gas, melalui peranan medan elektrik untuk mencapai substrat untuk menghasilkan filem nipis; yang kedua ialah penggunaan ion bertenaga tinggi (contohnya, Ar+) pada permukaan bahan filem pengeboman untuk membuat percikan keluar zarah melalui ruang pelepasan gas terionisasi menjadi ion atau atom neutral bertenaga tinggi, untuk mencapai permukaan substrat dan menghasilkan filem.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 07-Mac-2024