Mạ ion chân không (hay còn gọi là mạ ion) là một công nghệ xử lý bề mặt mới được công ty DM Mattox của Somalia đề xuất tại Hoa Kỳ vào năm 1963, và đã phát triển nhanh chóng trong những năm 1970. Nó đề cập đến việc sử dụng nguồn bay hơi hoặc mục tiêu bắn phá trong môi trường chân không để vật liệu màng bay hơi hoặc bị bắn phá, các hạt bay hơi hoặc bắn phá ra khỏi không gian phóng điện khí bị ion hóa thành các ion kim loại.
Các hạt này được lắng đọng trên chất nền dưới tác dụng của điện trường để tạo ra một lớp màng mỏng.
Mạ ion chân không có nhiều loại, thường được chia thành hai loại dựa trên vật liệu màng để tạo nguồn ion: mạ ion kiểu nguồn bay hơi và mạ ion kiểu mục tiêu bắn phá. Loại thứ nhất sử dụng phương pháp làm bay hơi vật liệu màng bằng cách nung nóng để tạo ra hơi kim loại, sau đó một phần hơi kim loại và các nguyên tử trung tính năng lượng cao bị ion hóa trong không gian plasma phóng điện khí, thông qua tác dụng của điện trường để tiếp cận chất nền và tạo thành màng mỏng; loại thứ hai sử dụng các ion năng lượng cao (ví dụ: Ar+) để bắn phá bề mặt vật liệu màng, làm cho các hạt bị bắn phá ra khỏi bề mặt, sau đó các hạt này bị ion hóa thành ion hoặc các nguyên tử trung tính năng lượng cao trong không gian phóng điện khí, tiếp cận bề mặt chất nền và tạo thành màng.
–Bài viết này được phát hành bởiNhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng bài: 07/03/2024