Ang vacuum ion coating (gitawag nga ion plating) giplano sa kompanya sa Somdia nga si DM Mattox sa Estados Unidos niadtong 1963, nga adunay paspas nga pag-uswag sa usa ka bag-ong teknolohiya sa pagtambal sa nawong sa dekada 1970. Kini nagtumong sa paggamit sa tinubdan sa evaporation o sputtering target sa usa ka vacuum nga atmospera aron ang materyal sa pelikula moalisngaw o mo-sputtering, moalisngaw o mo-sputtering gikan sa usa ka bahin sa mga partikulo sa gas discharge space nga ma-ionize ngadto sa metal ions.
Kini nga mga partikulo gideposito sa substrate ubos sa aksyon sa electric field aron makamugna og nipis nga proseso sa pelikula.
Daghang klase sa vacuum ion plating, kasagaran base sa materyal sa lamad nga gigamit sa paghimo sa tinubdan sa ion, kini gibahin sa duha ka klase: evaporation source type ion plating ug sputtering target type ion plating. Ang una gipainit sa materyal sa pelikula aron makahimo og mga alisngaw sa metal, aron kini partially ionized ngadto sa mga alisngaw sa metal ug high-energy neutral nga mga atomo sa wanang sa gas discharge plasma, pinaagi sa papel sa electric field aron makaabot sa substrate aron makamugna og nipis nga mga pelikula; ang ikaduha mao ang paggamit sa high-energy ions (pananglitan, Ar+) sa ibabaw sa materyal sa pelikula aron mahimo ang sputtering gikan sa mga partikulo pinaagi sa wanang sa gas discharge nga gi-ionize ngadto sa mga ion o high-energy neutral nga mga atomo, aron makaabot sa ibabaw sa substrate ug makamugna og pelikula.
–Kini nga artikulo gipagawas nitiggama og vacuum coating machineGuangdong Zhenhua
Oras sa pag-post: Mar-07-2024