Vakuum ion örtüyü (ion örtüyü adlanır) 1963-cü ildə ABŞ-da Somdia şirkəti DM Mattox tərəfindən təklif edilmiş və 1970-ci illərdə yeni bir səth təmizlənməsi texnologiyasının sürətli inkişafı olmuşdur. Bu, vakuum atmosferində buxarlanma mənbəyinin və ya püskürtmə hədəfinin istifadəsini nəzərdə tutur ki, film materialı buxarlansın və ya püskürsün, buxarlansın və ya püskürsün, qaz boşalması məkanındakı hissəciklərin bir hissəsi metal ionlarına ionlaşsın.
Bu hissəciklər elektrik sahəsinin təsiri altında substrat üzərində çökərək nazik bir təbəqə prosesi yaradır.
Vakuum ion örtüyü, adətən membran materialına görə ion mənbəyi istehsal etmək üçün iki növə bölünür: buxarlanma mənbəyi tipli ion örtüyü və püskürtmə hədəf tipli ion örtüyü. Birincisi, metal buxarları istehsal etmək üçün film materialını qızdırmaqla buxarlanır, beləliklə, qismən metal buxarlarına və qaz boşaltma plazmasının məkanında yüksək enerjili neytral atomlara ionlaşır, elektrik sahəsinin rolu vasitəsilə substrata çataraq nazik təbəqələr yaradır; ikincisi, film materialının səthində yüksək enerjili ionların (məsələn, Ar+) istifadəsi ilə hissəciklərin ionlara və ya yüksək enerjili neytral atomlara ionlaşmış qaz boşaltmasının məkanından püskürməsi, substratın səthinə çatması və film yaratmaqdır.
–Bu məqalə dərc olunubvakuum örtük maşını istehsalçısıGuangdong Zhenhua
Yazı vaxtı: 07 Mart 2024