Вакуумдук иондук каптоо (иондук каптоо деп аталат) 1963-жылы АКШда Somdia компаниясы DM Mattox тарабынан сунушталган, 1970-жылдары жаңы беттик тазалоо технологиясы тездик менен өнүгүп келген. Бул вакуумдук атмосферада буулануу булагын же чачыраткыч бутаны колдонууну билдирет, ошондуктан пленка материалы буулануу же чачыратуу, буулануу же чачыратуу аркылуу газ разрядындагы бөлүкчөлөрдүн бир бөлүгү металл иондоруна айланышы мүмкүн.
Бул бөлүкчөлөр электр талаасынын таасири астында субстратка чөкмөлөнүп, жука пленка пайда болот.
Вакуумдук иондук каптоо, адатта, мембрана материалына жараша ион булагын өндүрүү үчүн эки түргө бөлүнөт: буулануу булагы түрүндөгү иондук каптоо жана чачыратуучу максаттуу иондук каптоо. Биринчиси, пленка материалын ысытуу менен металл бууларын өндүрүү үчүн бууланат, ошентип ал жарым-жартылай металл бууларына жана газ разряд плазмасынын мейкиндигиндеги жогорку энергиялуу нейтралдуу атомдорго иондолот, электр талаасынын ролу аркылуу субстратка жетип, жука пленкаларды пайда кылат; экинчиси, пленка материалынын бетине жогорку энергиялуу иондорду (мисалы, Ar+) колдонуп, бөлүкчөлөр субстраттын бетине жетип, пленканы пайда кылат.
– Бул макала жарыяланганвакуумдук каптоочу машина өндүрүүчүсүГуандун Чжэнхуа
Жарыяланган убактысы: 2024-жылдын 7-марты