Kuputira maion evacuum (kunonzi ion plating) kuUnited States muna 1963, kambani yeSomdia DM Mattox yakakurudzira, kuma1970 kwave kuri kukura nekukurumidza kwetekinoroji itsva yekurapa pamusoro. Inoreva kushandiswa kwemvura inobva mumhepo kana chinangwa chekuputira mumhepo ine vacuum kuitira kuti zvinhu zvefirimu zvibude mumhepo kana kuti zvibude mumhepo, zvichibuda mumhepo kana kuti zvibude muchikamu chezvikamu zviri munzvimbo inoburitsa gasi zviite maion esimbi.
Zvidimbu izvi zvinoiswa pasi pesimba remagetsi kuti zvigadzire firimu rakatetepa.
Kuputira maion evacuum emhando dzakasiyana-siyana, kazhinji zvichienderana ne membrane zvinhu zvinogadzira ion source kuchakamurwa kuita mhando mbiri: evaporation source type ion plating uye sputtering target type ion plating. Yekutanga inopiswa nekupisa firimu kuti igadzire simbi, kuitira kuti iite ionized zvishoma kuita simbi vapors uye high-energy neutral atoms munzvimbo ye gas discharge plasma, kuburikidza nebasa remagetsi kuti isvike substrate kuti igadzire mafirimu matete; yekupedzisira kushandisa high-energy ions (semuenzaniso, Ar +) pamusoro pefirimu zvinhu bombardment kuti iite sputtering kubva muzvikamu kuburikidza nenzvimbo ye gas discharge ionized kuita ion kana high-energy neutral atoms, kuti isvike pamusoro pe substrate uye igadzire firimu.
–Chinyorwa ichi chakaburitswa namugadziri wemuchina wevacuum coatingGuangdong Zhenhua
Nguva yekutumira: Kurume-07-2024