Beschichtung mat der Quell vun der Resistenzverdampfung ass eng Basismethod fir d'Beschichtung duerch Vakuumverdampfung. "Verdampfung" bezitt sech op eng Method fir d'Virbereedung vun Dënnschichten, bei där d'Beschichtungsmaterial an der Vakuumkammer erhëtzt a verdampft gëtt, sou datt d'Materialatome oder -moleküle verdampfen an vun der Uewerfläch entkommen, wouduerch e Dampfstroumphänomen entsteet, dat op d'Uewerfläch vum Substrat oder Substrat trëfft a schliisslech zu engem feste Film kondenséiert gëtt.
Déi sougenannt Beschichtungsmethod fir d'Beschichtung vun der Resistenzverdampfungsquell besteet doran, Tantal, Molybdän, Wolfram an aner Metaller mat héijem Schmelzpunkt ze benotzen, fir eng passend Form vun der Verdampfungsquell ze kreéieren, déi mat Materialien, déi verdampft solle ginn, gelueden gëtt, d'Loft duerchfléisse léisst, déi verdampft Materialien direkt erhëtzt an verdampft, oder d'Materialien, déi verdampft solle ginn, an Aluminiumoxid, Berylliumoxid an aner Tiegel fir indirekt Erhëtzen an Verdampfung geluecht ginn. Dëst ass d'Resistenzheizungsverdampfungsmethod.
DenVakuumverdampfungsbeschichtungsmaschinnD'Erhëtzen an d'Verdampfung vun engem Widderstandsheizung huet d'Virdeeler vun enger einfacher Struktur, niddrege Käschten a verlässlecher Notzung. Et kann fir d'Verdampfungsbeschichtung vu Materialien mat engem niddrege Schmelzpunkt benotzt ginn, besonnesch fir d'Masseproduktioun mat niddrege Fuerderungen un d'Beschichtungsqualitéit. Bis elo gëtt et nach ëmmer eng grouss Zuel vu Beschichtungsprozesser mat Widderstandsheizung an -verdampfung, déi bei der Produktioun vun aluminiumiséierte Spigelen agesat ginn.
D'Nodeeler vun der Verdampfungsbeschichtungsmethod mat der Resistenzverdampfungsquell sinn, datt déi maximal Temperatur, déi duerch d'Erhëtzung erreecht ka ginn, limitéiert ass, an d'Liewensdauer vum Heizkierper och kuerz ass. Fir d'Liewensdauer vun der Resistenzverdampfungsquell an de leschte Joren ze verbesseren, huet d'Ausrüstungsfabréck dat leetfäegt Keramikmaterial, dat aus Bornitrid synthetiséiert gëtt a mat enger laanger Liewensdauer als Verdampfungsquell adoptéiert. Laut engem japanesche Patentbericht kann et Materialien benotzen, déi aus 20%~30% Bornitrid a refraktäre Materialien bestinn, déi domat geschmolz kënne ginn, fir d'Verdampfungsquell (Tichel) ze maachen, an hir Uewerfläch mat enger Zirkoniumschicht ze beschichten, déi 62%~82% enthält, an de Rescht sinn Zirkonium-Silicium-Legierungsmaterialien.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 22. Abrëll 2023