Apa itu pelapisan sumber penguapan resistansi?

Pelapisan sumber penguapan resistansi adalah metode pelapisan penguapan vakum dasar. "Penguapan" mengacu pada metode pembuatan lapisan tipis di mana bahan pelapis di dalam ruang vakum dipanaskan dan diuapkan, sehingga atom atau molekul material menguap dan lepas dari permukaan, membentuk fenomena aliran uap, mengenai permukaan substrat atau substrat, dan akhirnya mengembun membentuk lapisan padat.

Metode pelapisan sumber penguapan resistansi disebut dengan menggunakan tantalum, molibdenum, tungsten, dan logam titik leleh tinggi lainnya untuk membuat sumber penguapan dengan bentuk yang sesuai. Sumber penguapan ini diisi dengan bahan yang akan diuapkan, dialiri udara, dan dipanaskan serta diuapkan secara langsung. Alternatifnya, bahan yang akan diuapkan dapat dimasukkan ke dalam cawan lebur yang terbuat dari alumina, berilium oksida, atau bahan lainnya untuk pemanasan dan penguapan tidak langsung. Ini adalah metode penguapan pemanasan resistansi.

Itumesin pelapis penguapan vakumPemanasan dan penguapan dengan pemanas resistansi memiliki keunggulan struktur sederhana, biaya rendah, dan penggunaan yang andal. Metode ini dapat digunakan untuk pelapisan penguapan material dengan titik leleh rendah, terutama untuk produksi massal dengan persyaratan kualitas pelapisan yang rendah. Hingga saat ini, masih banyak proses pelapisan dengan pemanasan resistansi dan penguapan yang digunakan dalam produksi cermin berlapis aluminium.

Kelemahan metode pelapisan penguapan sumber evaporasi resistansi adalah suhu maksimum yang dapat dicapai melalui pemanasan terbatas, dan masa pakai pemanas juga pendek. Dalam beberapa tahun terakhir, untuk meningkatkan masa pakai sumber evaporasi resistansi, pabrik peralatan telah mengadopsi material keramik konduktif yang disintesis dari boron nitrida dengan masa pakai yang lama sebagai sumber evaporasi. Menurut laporan paten Jepang, dapat digunakan material yang terdiri dari 20%~30% boron nitrida dan material tahan api yang dapat dilebur dengannya untuk membuat sumber evaporasi (krutel), dan permukaannya dilapisi dengan lapisan zirkonium yang mengandung 62%~82%, dan sisanya adalah material paduan zirkonium-silikon.