El recubrimiento por evaporación resistiva es un método básico de recubrimiento por evaporación al vacío. La evaporación es un método de preparación de películas delgadas en el que el material de recubrimiento se calienta y evapora en una cámara de vacío, de modo que los átomos o moléculas del material se vaporizan y escapan de la superficie, formando un flujo de vapor que incide sobre la superficie del sustrato y, finalmente, se condensa para formar una película sólida.
El método de recubrimiento por evaporación por resistencia consiste en utilizar tantalio, molibdeno, tungsteno y otros metales de alto punto de fusión para crear una fuente de evaporación con la forma adecuada. Esta fuente se carga con los materiales a evaporar, permitiendo que el aire circule a través de ella para calentar y evaporar directamente dichos materiales. Alternativamente, se pueden colocar los materiales a evaporar en crisoles de alúmina, óxido de berilio u otros materiales para su calentamiento y evaporación indirectos. Este es el método de evaporación por calentamiento por resistencia.
Elmáquina de recubrimiento por evaporación al vacíoEl calentamiento y evaporación mediante resistencia eléctrica presenta ventajas como una estructura simple, bajo costo y uso confiable. Se puede utilizar para el recubrimiento por evaporación de materiales con bajo punto de fusión, especialmente en la producción en masa con bajos requisitos de calidad de recubrimiento. Hasta la fecha, se siguen utilizando numerosos procesos de recubrimiento por calentamiento y evaporación por resistencia eléctrica en la producción de espejos aluminizados.
Las desventajas del método de recubrimiento por evaporación de la fuente de evaporación por resistencia radican en que la temperatura máxima alcanzable mediante calentamiento es limitada y la vida útil del calentador es corta. En los últimos años, para mejorar la vida útil de la fuente de evaporación por resistencia, la fábrica de equipos ha adoptado un material cerámico conductor sintetizado con nitruro de boro de larga duración como fuente de evaporación. Según un informe de patente japonés, se pueden utilizar materiales compuestos por un 20 % a un 30 % de nitruro de boro y materiales refractarios que se pueden fusionar con él para fabricar la fuente de evaporación (crisol), y recubrir su superficie con una capa de circonio que contiene entre un 62 % y un 82 %, y el resto son materiales de aleación de circonio-silicio.
Fecha de publicación: 22 de abril de 2023