Unsa ang resistance evaporation source coating?

Ang resistance evaporation source coating usa ka batakang pamaagi sa vacuum evaporation coating. Ang "Evaporation" nagtumong sa pamaagi sa pag-andam sa nipis nga pelikula diin ang materyal sa coating sa vacuum chamber gipainit ug gi-evaporate, aron ang mga atomo o molekula sa materyal mo-vapor ug mogawas gikan sa ibabaw, nga moporma og vapor flow phenomenon, moabot sa ibabaw sa substrate o substrate, ug sa katapusan mo-condensate aron maporma ang usa ka solidong pelikula.

Ang gitawag nga resistance evaporation source coating method mao ang paggamit sa tantalum, molybdenum, tungsten ug uban pang high melting point metals aron makahimo og angay nga porma sa evaporation source, nga kargahan og mga materyales nga evaporated, pasagdan ang hangin nga moagi, direkta nga ipainit ug evaporate ang evaporated nga mga materyales, o ibutang ang mga materyales nga evaporated sa alumina, beryllium oxide ug uban pang crucibles para sa dili direkta nga pagpainit ug evaporation. Kini ang resistance heating evaporation method.

Angmakina sa pag-vacuum evaporation coatingAng pagpainit ug pagpaalisngaw gamit ang resistance heater adunay mga bentaha sa yano nga istruktura, barato, ug kasaligan nga paggamit. Mahimo kining gamiton para sa evaporation coating sa mga materyales nga adunay ubos nga melting point, ilabi na para sa mass production nga adunay ubos nga kinahanglanon para sa kalidad sa coating. Hangtod karon, daghan pa gihapon nga mga proseso sa coating sa resistance heating ug evaporation ang gigamit sa paghimo og aluminized mirrors.

Ang mga disbentaha sa pamaagi sa resistance evaporation source evaporation coating mao nga limitado ang pinakataas nga temperatura nga maabot pinaagi sa pagpainit, ug mubo usab ang kinabuhi sa heater. Sa bag-ohay nga mga tuig, aron mapaayo ang kinabuhi sa resistance evaporation source, ang pabrika sa kagamitan nagsagop sa conductive ceramic material nga gi-synthesize sa boron nitride nga adunay taas nga kinabuhi isip evaporation source. Sumala sa usa ka report sa patente sa Hapon, mahimo kini mogamit mga materyales nga gilangkoban sa 20% ~ 30% boron nitride ug mga refractory nga materyales nga mahimong isagol niini aron mahimo ang evaporation source (crucible), ug tabunan ang nawong niini og layer sa zirconium nga adunay 62% ~ 82%, ug ang nahabilin mga zirconium-silicon alloy materials.