Obductio fontis evaporationis resistentiae est methodus fundamentalis obductionis evaporationis vacui. "Evaporatio" significat methodum praeparationis pelliculae tenuis in qua materia obductionis in camera vacui calefacta et evaporatur, ita ut atomi vel moleculae materiae vaporentur et a superficie effugant, phaenomenon fluxus vaporis formantes, in superficiem substrati vel substrati incidunt, et tandem condensantur ad pelliculam solidam formandam.
Methodus, quae dicitur "resistential evaporation source coating" (obductio fontis evaporationis resistentiae), tantalum, molybdenum, tungstenum, aliaque metalla cum alto puncto liquefactionis adhibet, ut formam fontis evaporationis aptam efficiat. Materiis evaporandis onustum, aerem per illud fluere sinens, materias evaporatas directe calefacit et evaporat, vel materias evaporandas in alumina, oxidum beryllium, aliaque crispula ad calefactionem et evaporationem indirectam immittenda est. Haec methodus evaporationis per resistentiam calefactionis est.
TheMachina ad tegendos vaporationem vacuiCalefactio et evaporatio per calefactorem resistentiae commoda habent structurae simplicis, sumptus humilis, et usus fidus. Adhiberi potest ad materias cum puncto liquefactionis humili obducendas per evaporationem, praesertim ad productionem magnam cum requisitis qualitatis obductionis parvis. Hactenus, adhuc magnus numerus processus obductionis calefactionis resistentiae et evaporationis in usu est in productione speculorum aluminizatorum.
Incommoda methodi obductionis evaporationis fontis resistentiae evaporationis sunt haec: maxima temperatura, quae per calefactionem attingi potest, limitata est, et vita utilis calefactoris etiam brevis. Recentibus annis, ut vita fontis resistentiae evaporationis augeatur, officina instrumentorum materiam ceramicam conductivam, nitrido bori syntheticam longae vitae, ut fontem evaporationis adoptavit. Secundum relationem patentis Iaponicae, materias ex 20%~30% nitrido bori compositas et materias refractarias, quae cum eo fundi possunt, ad fontem evaporationis (crustulum) faciendum adhibere potest, et superficiem eius strato zirconii 62%~82% continentis obducere, reliqua vero materiae ex mixtura zirconii et silicii.
Tempus publicationis: XXII Aprilis MMXXIII