Vakuum-Ionenplattieren (kurz: Ionenplattieren) ist eine neue Oberflächenbehandlungstechnologie, die sich in den 1970er Jahren rasant entwickelte und 1963 von DM Mattox von der Somdia Company in den USA vorgeschlagen wurde. Dabei handelt es sich um den Prozess, bei dem das Filmmaterial mithilfe einer Verdampfungsquelle oder eines Sputtertargets in einer Vakuumatmosphäre verdampft oder gesputtert wird.
Bei ersterem wird Metalldampf durch Erhitzen und Verdampfen des Filmmaterials erzeugt, das im Gasentladungsplasmaraum teilweise zu Metalldampf und hochenergetischen neutralen Atomen ionisiert wird und durch die Einwirkung des elektrischen Felds das Substrat erreicht, um einen Film zu bilden; bei letzterem wird die Oberfläche des Filmmaterials mit hochenergetischen Ionen (z. B. Ar+) bombardiert, sodass die zerstäubten Partikel durch den Raum der Gasentladung zu Ionen oder hochenergetischen neutralen Atomen ionisiert werden und auf der Oberfläche des Substrats einen Film bilden.
Dieser Artikel wurde von Guangdong Zhenhua veröffentlicht, einem Hersteller vonVakuumbeschichtungsanlage
Veröffentlichungszeit: 10. März 2023