A deposição iônica a vácuo (ou simplesmente deposição iônica) é uma nova tecnologia de tratamento de superfície que se desenvolveu rapidamente na década de 1970, proposta por DM Mattox da empresa Somdia, nos Estados Unidos, em 1963. Refere-se ao processo de utilização de uma fonte de evaporação ou alvo de pulverização catódica para evaporar ou pulverizar o material do filme em atmosfera de vácuo.
O primeiro método consiste em gerar vapor metálico aquecendo e evaporando o material do filme, que é parcialmente ionizado em vapor metálico e átomos neutros de alta energia no espaço do plasma da descarga gasosa, e atinge o substrato para formar um filme através da ação do campo elétrico; o segundo método utiliza íons de alta energia (por exemplo, Ar+) bombardeando a superfície do material do filme para que as partículas pulverizadas sejam ionizadas em íons ou átomos neutros de alta energia através do espaço da descarga gasosa, e assim formem um filme na superfície do substrato.
Este artigo foi publicado pela Guangdong Zhenhua, uma fabricante deequipamento de revestimento a vácuo
Data da publicação: 10 de março de 2023